Michael quirk_半导体制造技术-第十章_氧化ppt课件.ppt

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1、SemiconductorManufacturingTechnologyMichaelQuirk&JulianSerda©October2001byPrenticeHallChapter10Oxidation©2000byPrenticeHallSemiconductorManufacturingTechnologybyMichaelQuirkandJulianSerdaObjectivesAfterstudyingthematerialinthischapter,youwillbeableto:1.Describeanoxide

2、filmforsemiconductormanufacturing,includingitsatomicstructure,howitisusedanditsbenefits.2.Statethechemicalreactionforoxidationanddescribehowoxidegrowsonsilicon.3.Explainselectiveoxidationandgivetwoexamples.4.Statethethreetypesofthermalprocessingequipment,describethefi

3、vepartsofaverticalfurnace,andgivetheattributesofafastrampverticalfurnace.5.Explainwhatisarapidthermalprocessor,itsusageanddesign.6.Describethecriticalaspectsoftheoxidationprocess,itsqualitymeasuresandsomecommontroubleshootingproblems.DiffusionAreaofWaferFabricationTes

4、t/SortThinFilmsImplantDiffusionEtchPolishPhotoCompletedwaferWaferfabrication(front-end)UnpatternedwaferWaferstartUsedwithpermissionfromAdvancedMicroDevicesFigure10.1OxideFilmNatureofOxideFilmUsesofOxideFilmDeviceProtectionandIsolationSurfacePassivationGateOxideDielect

5、ricDopantBarrierDielectricBetweenMetalLayersAtomicStructureofSiliconDioxideSiliconOxygenUsedwithpermissionfromInternationalSEMATECHFigure10.2FieldOxideLayerFigure10.3GateOxideDielectricFigure10.4OxideLayerDopantBarrierFigure10.5Table10.1 OxideApplications:NativeOxideP

6、urpose:Thisoxideisacontaminantandgenerallyundesirable.Sometimesusedinmemorystorageorfilmpassivation.Comments:Growthrateatroomtemperatureis15perhouruptoabout40Å.p+SiliconsubstrateSilicondioxide(oxide)Table10.1ATable10.1 OxideApplications:FieldOxidePurpose:Servesasaniso

7、lationbarrierbetweenindividualtransistorstoisolatethemfromeachother.Comments:Commonfieldoxidethicknessrangefrom2,500Åto15,000Å.Wetoxidationisthepreferredmethod.FieldoxideTransistorsitep+SiliconsubstrateTable10.1BTable10.1 OxideApplications:GateOxidePurpose:Servesasadi

8、electricbetweenthegateandsource-drainpartsofMOStransistor.Comments:Growthrateatroomtemperatureis15Åperhouruptoabout40Å.Commo

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