电容屏Sensor基础知识简介上课讲义.ppt

《电容屏Sensor基础知识简介上课讲义.ppt》由会员上传分享，免费在线阅读，更多相关内容在教育资源-天天文库。

1、电容屏Sensor基础知识简介Sensor基本常识Film做ITO载体的工艺：单层：一层ITO层，无屏蔽层，主要用于中小尺寸Film，成本低；双层：两层ITO层，无屏蔽层，大尺寸都倾向于Film，成本低；三层：两层ITO层，一层屏蔽层，工艺步骤多且良率不好控制，Film只能承载单层ITO。Glass做ITO载体的工艺：单层搭桥：只需要一片玻璃，一面搭桥做ITO层一面做屏蔽层，主要用于小尺寸的屏，工艺少、成本低、良率好控制；双层：一块玻璃的两面都铺有ITO，由于自电容抗干扰能力弱必须再加一层屏蔽层，导致成本增加但实现工艺比单层容易，通常把一层ITO做到LENS上面，另一块

2、玻璃做ITO层和屏蔽层。二、GlassSensor与FilmSensor的比较ITOFilm（菲林）分为亮面材料和雾面材料。均有不防划伤、防划伤、防牛顿环、防反射（高透处理）等材质；ITOGlass（导电玻璃）分为普通玻璃和强化玻璃。其中强化玻璃有表面镀膜和离子置换工艺。厚度有2.0mm、1.1mm、0.7mm、0.55mm、0.4mm、0.3mm等规格。结构及其主要材料比较ITO是一种N型氧化物半导体-氧化铟锡,ITO薄膜即铟锡氧化物半导体透明导电膜,通常有两个性能指标:电阻率和透光率。在氧化物导电膜中，以掺Sn的In2O3(ITO)膜的透过率最高和导电性能最好,而且

3、容易在酸液中蚀刻出细微的图形.其中透光率达90%以上,ITO中其透光率和阻值分别由In2O3与Sn2O3之比例来控制,通常Sn2O3:In2O3=1:9,多用于触控面板、触摸屏、冷光片等。ITO是所有电阻技术触屏及电容技术触摸屏都用到的主要材料，实际上电阻和电容技术触摸屏的工作面就是ITO涂层。ITO：OCA是将光学亚克力胶做成无基材，然后在上下底层各贴合一层离型薄膜，是一种无基体材料的双面贴合胶带。特性：高透光率、雾度低、耐紫外线、高粘着力、耐高温、长时间不使用不发黄OCA：GlassSensor与FilmSensor的比较市场比较1、苹果采用的是Double-ITO

4、玻璃电容屏，Sumsung采用的是Film电容屏；2、目前，HTC、ZTE、MEIZU等都有玻璃电容屏和Film电容屏产品；3、目前市面上的芯片都能支持玻璃电容屏和Film电容屏，因此，客户选择玻璃电容屏还是Film电容屏将不限制电容屏芯片与平台之间调制的限制；4、Film电容屏采用印刷工艺制程，设备不需要采用曝光、显影等高端制程，因此相对玻璃电容屏而言，成本较低；5、Film电容屏是柔性的Film与面板玻璃贴合，贴合容易，而玻璃电容屏是刚性的玻璃与玻璃贴合，贴合难；6、Film电容屏打样周期短，目前，国内供应商还是以Film电容屏为主。注：曝光、显影制程是一种高端制程

5、、在芯片封装和LCD电极设备中常用，相对印刷而言，其精度高、成本高，但是电容屏芯片在计算坐标时是一种权重计算，分辨率低，因此精度高对触摸屏的实际坐标精度提高不明显。最大的优势是可以使玻璃电容屏的边框能设计很窄。三、电容屏ITO制程工艺简介丝印工艺（即化学蚀刻法）：在绝大多数的场合中，化学蚀刻法是ITO图形制备最成熟和可行的技术，它可以根据你的需要，生成目前足够精细的图案和相对比较少的前期投资。随着深紫外线技术在曝光设备上的应用，微米的精度，早已被大多数厂家所实现。它具有高效率、批次稳定性和重复性好、设备投资额低、配套技术完善等诸多优点，目前仍是大规模生产的主要方向，使用

6、的原料有蚀刻膏、耐酸油墨、光刻胶。蚀刻膏制程（简称干蚀刻）：是直接在产品电极图形区域外印制蚀刻膏，等反应完全后，用蚀刻膏溶剂，一般是水清洗干净，留下所需的电极图形。因为不用耗费大量的化学物品，对环境污染影响更小，节省大量水、电费、场地费用，前期投资费用低廉，一般的中小型企业都可以掌握大部分技术。该工艺的线宽线距一般要求在0.2mm以上，对丝印网版感光胶要求高。控制要点：温度、蚀刻速度、边缘效应耐酸油墨制程（简称湿蚀刻）：分为UV型和热固型。它是在产品电极图形区域内印制阻蚀油墨保护起来，然后把产品浸入化学蚀刻液中，让产品电极图形区域外部分与化学蚀刻液完全反应后，再把阻蚀油

7、墨从产品电极图形表面剥离下来，形成产品电极图形。它的线宽和线距做到0.08mm，仍可以达到95%以上的蚀刻良率阻蚀油墨的控制要点：针孔度、粘度保护胶制程：热固型，过酸不过减蚀刻良率较高，成本较高丝印工艺流程激光工艺：ITO具有反射红外线，吸收紫外线能量的特性。人们利用这两个特性制作了1055nm和355nm的激光器，进行ITO膜图形制备加工。红外线激光加工是使ITO层在高温下汽化挥发，把ITO去除掉。紫外线激光加工让ITO层里的原子吸收紫外线能量后自己激化成离子，从ITO层表面不断逃逸，把ITO去除掉。激光蚀刻法制作ITO层有比较严格的线