最新测控溅射仪ppt课件.ppt

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1、测控溅射仪常用的镀膜方法常压：低压：喷涂电镀流延物理气相沉积化学气相沉积蒸镀分子束外延激光脉冲沉积磁控溅射CVDALDe1Are2e3E基片溅射靶靶原子e1eAr+NNSS磁控溅射：在二极溅射中增加一个平行于靶表面的封闭磁场，借助于靶表面上形成的正交电磁场，把二次电子束缚在靶表面特定区域来增强电离效率，增加离子密度和能量，从而实现高速率溅射的过程。溅射磁控真空系统机械泵：粗抽真空，极限10-2Pa分子泵：抽高真空，极限10-5Pa真空腔：镀膜的场所控制阀：前级阀，旁抽阀，插板阀真空度的划分粗真空：1*105~1*102Pa分子间碰撞

2、十分频繁低真空：1*102~1*10-1Pa分子间碰撞逐渐减少高真空：1*10-1~1*10-6Pa分子间碰撞大大减少超高真空：1*10-6~1*10-9Pa几乎不存在分子间碰撞极高真空：1*10-9~几乎不存在分子间碰撞溅射系统靶安装各种靶材样品台放置镀膜基体，通常可旋转溅射电源直流电源，射频电源，脉冲电源气路气瓶溅射气体：Ar气反应气体：O2，N2等质量流量计Sccm：标准立方厘米每分钟气管阀门磁控溅射都能做什么？硬质膜：功能膜：智能膜：CrOXTiN,AlTiNDLCITO,ZnOa-Si，mc-Si，CdS，CdTe各种纯金

3、属膜：Cu,Al,Bi,Au,AgAu-Cd,Ag-Cd,Cu-Zn,Ni-Ti镀膜过程基体准备基体类型：高速钢和硬质合金、玻璃、Si、柔性集体基体清洗：丙酮、酒精、去离子水、等离子抽真空低真空：机械泵1-10Pa高真空：分子泵10-4Pa镀膜射频：导电和绝缘靶材，容易靶中毒的靶材直流：导电靶材冷却破真空取样镀膜中可调参数气压通过气体流量和插板阀开启大小调节影响成膜速度和成膜质量温度通过样品台加热和水冷模块调节影响膜的结晶程度和应力水平功率通过射频电源和直流电源控制器调节影响成膜速度和结晶程度偏压通过偏压电源控制器调节影响成膜质量和

4、应力水平靶基距影响成膜速度和成膜质量薄膜的三种生长模式岛状生长（Volmer-Weber型）层状生长（Frank-VanderMerwe型）层岛复合生长（Stranski-Krastanov型）常用的分析表征方法X射线衍射布拉格公式：2dsinθ=nλ用途材料的成分材料内部原子或分子的结构或形态应力水平分析扫描电镜：表面形貌截面形态能谱分析透射电镜：原子级分辨率结晶状态晶面间距结晶取向其他表征方法划痕仪结合力、硬度纳米压入显微硬度、应力-应变曲线Raman（拉曼）键型、应力状态、元素比例XPS（X射线光电子能谱）键能测量，成分分析、

5、元素比例定性半定量Auger（俄歇）成分分析、比例定量、深度剖析谢谢极差、方差、标准差极差=＿＿＿＿＿＿＿；方差=＿＿＿＿＿＿;标准差=＿＿＿＿＿＿＿;一、基本概念：练习⑴数据－３、０、２、３、９的极差为＿＿＿＿⑵一个射箭运动员连续射靶５次，所得的环数分别是８、６、１０、７、９，则这个运动员所得环数的标准差为＿＿＿＿＿二、例题精讲例１、数据0、1、2、3、x的平均数是2，则这组数据的极差和标准差分别是（）A4，2B4，C2，D4，例2、某水果店一周内甲、乙两种水果每天销售情况统计如下(单位:kg):(1)分别求出本周内甲、乙两种水果

6、每天销售的平均数;(2)说明甲、乙两种水果销售量的稳定性.一二三四五六日甲45444842575566乙48444754515360例3　射击集训队在一个月的集训中，对甲、乙两名运动员进行了１０次测试，成绩如图所示：⑴根据右图所提供的信息填写下表：⑵如果你是教练，会选择哪位运动员参加比赛？请说明理由。平均数众数方差甲７⒈２乙⒉２