光刻技术论文 激光干涉光刻技术的分析.docx

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1、光刻技术论文激光干涉光刻技术的分析【关键词】激光技术激光干涉干涉光刻技术1引言2激光干涉光刻技术激光干涉光刻技术定义为通过光的衍射、干涉，将光束用特定的方式组合，达到干涉场内光强度的有效调控，在此种情况下利用感光而产生光刻图形。如下为双光束干涉光刻的主要原理：波长为入的2束平面波，其中入射角为01、02表示，则公式为：其中：I0为入射光强度，而x为干涉点到入射之间的长度;对于入射角大小的改变、频率、控制曝光量，都能对形状、周期以及高度的不同产生一维或者二维的结构。3激光干涉光刻的应用3.1在光子晶体中的应用在20世纪70年代，Yblonovitch等人第一次提

2、出光子晶体这个全新的概念，也就是不同介电常数的介质材料在空间呈现周期性排布的一种结构。在众多的高科技产品当中，光子晶体应用得到普及且实用，例如在人们平时生活中用到的天线、滤波器、分束器以及放大器等，在光子晶体的制作当中，有着非常广泛的应用。到了20世纪末，在制备二维和三维光子晶体当中，激光干涉光刻技术第一次得到了有效的利用，在这之后，人们更多的开始了深入研究这一技术应用，在经过大量的具体实验分析以及数值模拟优化之后，通过干涉光刻来制备光子晶体的技术愈发成熟。经过长时间实践应用，发展到现在，干涉光刻技术应用领域与实际操作更加广泛，即在很多关于制备光子晶体的部分基

3、础设备涉及有关光分插复用器、有机发光二极管都应用的相当广泛。1.1在太阳能电池中的应用2结语参考文献[1]冯伯儒，张锦，郭永康.波前分割无掩膜激光干涉光刻的实现方法[J].光电工程，2010(12).[2]郭宝增.0.13p.m集成电路制造中的光刻技术研究与展望[J].固体电子学研究与进展，2010(03).[3]王光伟.准分子激光光刻技术及进展综述[J].天津工程师范学院学报，2011(01).作者单位深圳深爱半导体股份有限公司广东省深圳市518000点击下页还有更多>>>光刻技术论文