解析高纯试剂以及高纯试剂分类

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解析高纯试剂以及高纯试剂分类纯度远高于优级纯的试剂叫做高纯试剂。是在通用试剂基础上发展起来的，是为了专门的使用目的而用特殊方法生产的纯度最高的试剂。高纯试剂控制的是杂质项含量，基准试剂控制的是主含量，基准试剂可用标准溶液的配制，但高纯试剂不能用于标准溶液的配制（单质氧化物除外）。目前在国际上也无统一的明确规格，我国除对少数产品制定了国家标准外，大部分高纯试剂的质量标准还很不统一，在名称上也有高纯、超纯、特纯、光谱纯、电子纯等不同叫法。一般以9来表示产品的纯度。故在规格栏中标以2个9、3个9、4个9以此类推，根据这个原则可将高纯物质分为：  杂质总含量不大于1.5×10-2%，其纯度为3.5个9（99.95）简写为3.5N杂质总含量不大于1.0×10-2%，其纯度为4个9（99.99）简写为4.0N杂质总含量不大于1.0×10-3%，其纯度为5个9（99.999）简写为5N  对高纯试剂或高纯元素纯度或杂质含量的检验，一般常用原子吸收光谱、原子发射光谱、色谱、质谱比色化学分析等方法进行测定。其阴离子规格原则上参照试剂优级标准，没有优级标准的产品由生产单位自行制定。根据用途不同，把高纯试剂又分成几大类：  普通离纯试剂：是指一些高纯单质金属、氧化物、金属盐类等，常用于原子能工业材料、电子工业材料、半导体基础材料等，金属单质的氧化物、用来配制标准溶液和作为标准物质，该类试剂常要求含量在4N-6N之间。 东莞市乔科化学有限公司 超净电子纯试剂：超净高纯试剂是集成电路（IC）制造工艺中的专用化学品，用于硅片清洗、光刻、腐蚀工序中。对这种高纯试剂中可溶性杂质和固态微粒要求非常严格，为适应IC集成度不断提高的需求，国际上半导体工业协会（SemiconductorIndustryAssociation）近来推出Semic7(适合0.8-1.2微米工艺技术)和Semic8(适合于0.2-0.6微米工艺技术)级别的试剂质量标准。我国在原有MOS级、BV-I级试剂的基础上，又制定出BV-II级和BV-III级试剂标准（相当于Semic7）。我研究所也研制多种MOS级、BV-I级BV-II级和部分BV-III级试剂，其颗粒度（0.5微粒颗粒）≤25-100个∕ml，金属杂质总量≤10-3—10-5﹪  光刻胶高纯试剂：光刻工艺是一种表面加工技术，在半导体电子器件和集成电路制造中占有重要地位。为在表面实现选择性腐蚀，采用一类具有抗蚀作用的感光树脂材料作为抗蚀涂层，称为抗蚀剂，国内通称光刻胶。按照溶解度的不同而将光刻胶分为“正性”光刻胶和“负性”光刻胶，按所用曝光光源和辐射光源的不同，又可将其分为紫外、远紫外、电子束、X射线等光刻胶。光刻胶是微细图形加工的一种关键试剂，要求水分低、金属杂质含量低（≤10-6）磨抛光高纯试剂：是指用于硅单晶片表面的研磨和抛光的高纯度试剂。它又分磨粉（三氧化二铝）和磨液（水和油剂），能研磨表面达到微米级加工精度。这类试剂要求颗粒粒度小（纳米），纯度高，金属杂质一般要求2.0×10-4—5×10-5﹪液晶高纯试剂：液晶是一类电子化学材料，是指在一定温度范围内呈现介于固相和液相之间的中间相的有机物。它既有液态的流动性也有晶态的各向异性，有时人称他为第四态。 液晶种类繁多，用途最广，前景最大的要属TN(低档)、STN（中高档）、TFT（高档）型。TN、STN及TFT东莞市乔科化学有限公司 三种型号所组成的单体液晶，主要包括芳香酯类、联苯类、苯基环已烷类、铁电类以及含氟液晶品等五种，它们是当今及今后使用及发展的主要对象。这类高纯试剂要求含量高（≥99﹪），水分含量低（≤10-6），金属杂质含量少（≤10-6）。借助液晶独特的光、电子特性可以用于检查飞机、人选卫星等装置上的缺陷，在医学上用来诊断癌症、结核等病症。东莞市乔科化学有限公司