oled材料发展-空穴传输材料

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1、OLED材料发展-空穴传输材料发布时间:2008-10-01作者:来源:浏览次数:53OLED材料发展-空穴传输材料目前空穴传输材料(Holetransportmaterials)(本文层电洞传输材料)向提高热稳定向和降低空穴传输层与阳极界面的能级差的方向发展,但离不开triphenylamines(图1)的结构。日本的Nagoya大学与NipponSteelChemical公司合作开发TPD衍生物的电洞传输材料(图2),虽然改善了TPD易结晶的特性,但使用Alq为电子传输发光体时,元件(ITO/CuPc/HTM/Alq/LiF/

2、Al)的表现并不太理想(表一)。 表一TPD衍生物的性质日本Idemitsu公司开发出triamine的电洞传输材料(图3),它们具有较高的耐热性。美国的Xerox公司开发出另一种星放射状的电洞传输材料(图4),其具有较高热稳定性(Tg>120℃)。德国Covion公司则开发一种Spiro型电洞传输材料(图5),命名为Spiro-NPB及Spiro-TAD,而其Tg分别为147℃及133℃,其在元件的表现较NPB为好(表二)。 表二NPB和Spiro-NPB、Spiro-TAD衍生物性质的比较Kodak公司所发表一种新型triph

3、enylamine型电洞传输材料(图6),其是利用金刚烷的构形的固定来提高其Tg(Tg=155℃)。

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