氮杂[60]富勒烯优化合成

氮杂[60]富勒烯优化合成

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1、氮杂[60]富勒烯的优化合成卢博为,张前炎*,谢素原,黄荣彬,郑兰荪(厦门大学化学化工学院,固体表面物理化学国家重点实验室,福建厦门361005)摘要:氮杂富勒烯是目前唯一得到较为广泛研究的杂富勒烯,其中以C60骨架上一个或多个C原子被N原子取代的氮杂[60]富勒烯最具代表性。虽然其独特结构和物理化学性能引起了科学界的浓厚兴趣,但较低的合成产率成为了制约其深入研究的主要障碍。本研究对比了氮杂[60]富勒烯的Wudl、Gan、Hirsch等3种合成方法,并对Wudl法的影响因素进行了系统研究,经工艺优化,显著地抑制了从C

2、60到羰基内酰胺中间产物合成过程中的副产物的生成,基于回收原料C60的羰基内酰胺中间产物产率达63.9%,氮杂[60]富勒烯的总收率由11.3%提高到20.9%,且过量C60可高效回收并直接使用。本文居于对影响氮杂[60]富勒烯合成产率的因素的深入探讨,提出的工艺较Wudl法降低了氮杂[60]富勒烯的制备成本,为进一步探索氮杂富勒烯的性质规律和应用前景创造了有利条件。关键词:氮杂[60]富勒烯;化学合成;碳团簇;机理;回收利用中图分类号:O613.71;O613.61;O621.3文献标志码:A氮杂富勒烯是纯碳富勒烯骨

3、架上一个或多个C原子被N原子取代形成的一类笼状化合物,是目前唯一可通过常规化学方法进行宏量制备的杂富勒烯。N原子一般形成3个共价键以满足八隅规则,因而奇数个C原子被取代后的产物将以二聚体形式存在,而偶数个C原子被取代则会直接生成闭壳层分子。鉴于氮杂富勒烯独特的化学性质和可能的功能应用,这方面的研究引起了人们极大兴趣。N原子的掺杂将影响单个富勒烯分子和二聚体上电子云密度分布、键能键角、HOMO-LUMO轨道等[1-2],进而改变富勒烯的电子特性和化学反应活性,尤其是在N原子邻位的C原子上出现未成键的单电子,使得该C原子具

4、有极高的反应活性,易发生亲核加成和自由基加成反应。此外,单取代氮杂[60]富勒烯衍生物(N原子的邻位C上连接一个有机基团,ArC59N)还可与ICl发生卤化反应[3],或与过量甲苯、甲氧基苯等小分子芳烃生成3~5取代产物[4],这两类反应具有的独特定位效应是源于N原子所在的完整吡咯结构不参与富勒烯球体上的大π体系共轭[3]。多氮杂富勒烯的合成探索也在进行中,如Hirsch组[5]与Gan组[6]相继设计出的合成路线对多氮杂闭壳分子C58N2的制备发起了挑战,但目前只检测到目标产物的质谱信号。N原子的引入除了影响富勒烯的

5、化学性质,还将影响富勒烯本体及衍生物作为功能(复合)材料的各种性能。目前氮杂富勒烯主要应用于太阳能电池[7]、分子整流器[8]、储氢材料[9]、光敏化氧化催化剂[10]等方面。近年来,氮杂富勒烯的非常规合成研究取得了一系列成果。Dorn组[11-12]通过Kratschmer-Huffman电弧放电法先后制备并分离得到M2@C79N(M=Y,Tb,Gd);Stevenson组[13]成功分离得到了La3N@C79N,并证实La3N原子簇较C80更倾向于内嵌至C79N笼内;Chen等[14]通过将Y/Ti与石墨混合,成功

6、合成并分离得到第一例内嵌单金属氮杂富勒烯Y@C83N,这也是目前得到的最大碳数的氮杂富勒烯笼。然而,非常规方法的合成产率往往不足1%,只有采用经典的化学方法才能更加有效地提高合成产率。迄今为止,能够得以宏量制备的有氮杂[60]富勒烯、氮杂[70]富勒烯及他们的混合二聚体(C59N-C69N)[15],其中唯有氮杂[60]富勒烯((C59N)2)得到了较为全面系统的研究。氮杂[60]富勒烯的化学合成路线主要有3种。Gan法[16]中C60先经三步转化为开笼富勒烯过氧化物[17],再通过三步反应得到氮杂[60]富勒烯衍生物

7、R4C59HN(R=OOtBu),该方法步骤复杂且整体产率较低,但得到的目标分子中N原子邻位C及N所在吡咯结构邻近的四个C均可高选择性定向修饰(图1[16-17])。Hirsch法[18-19]利用Wudl法第一步中[6,6]闭环副产物3,通过两步反应得到(C59N)2,由于3在1,3-偶极环加成反应平衡竞争中始终处于劣势,产量极低,且目标产物(C59N)2生成的同时还伴随着约0.7倍摩尔量的甲氧基乙氧基衍生物7,整体收率难以得到保障。该路线的意义在于,可将化学性质稳定且无法被氧化的3转化为最终产物(C59N)2,作为

8、Wudl法的补充,能够进一步提高C60的利用率和整体产率(图2[18-19])。Wudl组[20-22]最早完成了氮杂[60]富勒烯的全合成(图3[20-24]),该方法先用MEMN3进攻C60发生1,3-偶极环加成反应生成2,化合物2被氧气氧化为过氧化中间体A,A断裂过氧键生成羰基内酰胺化合物8,8在酸性条件下断裂MEM基团形成

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