吉林大学珠海学院应用化学专业本科毕业论文

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1、暖性硫酸盐镀铜液分散能力的影响因素及其改善摘要酸性硫酸盐镀铜工艺具有成分筒单、成本低、维护方便等优点，在加入镀铜光亮剂之后，可以电镀出镀层质量较高的零件。随着经济的发展以及科学技术的提高，越來越多的市场对电镀金属层的品质要求也越来越高，在生产屮控制生产参数和工艺条件尤为重要。本论文通过讨论酸性硫酸盐镀铜液分散能力的影响因素，从法拉第铜厚计算公式入手，推论出影响酸性硫酸盐镀液影响电镀铜厚的主要因影是阴极电流密度的分布性。然后讨论阴极电流密度的分布性与分散能力的关系，得出电流密度的分布性与镀液分散力为平行关系，发现影响镀液分散能力的因素有：（1）电解槽的形

2、状和远、近阴极与阳极距离之差（乩）:（2）阴极和阳极间的距离（Z,）;（3）镀液极化率#的大小；④镀液的电阻率（p）。进dD而提出改善方案如下：（1）改变电解槽的形状；加大零件与阳极间的距离，采用象形阳极法和保护阴极法：（2）让零件在电解槽中均匀排布；（3）选择适当的络合剂和添加剂，提高阴极极化降；（4）低硫酸盐镀液的电阻率，提高电导率。关键词：酸性硫酸盐镀液；阴极电流密度；分散能力AcidicSulfateCopperPlatingLiquidDispersionAbilityoftheInfluenceFactorsAndImprovementAb

3、stractAcidicsulfatecopperplatingwithcompositionoftubesheet,andtheadvantagesoflowcost,convenientmaintenance,inaddcopperplatingbrightener,canplatingcoatingpartsofhighquality.Withtheimprovementofthedevelopmentofeconomyandscienceandtechnology,moreandmoremarketforplatingmetallayerqua

4、lityrequirementsalsomoreandmorehigh,tocontroltheproductionparametersandtechnologyconditionsinproductionisparticularlyimportant.AcidicsulfatecopperplatingliquiddispersionarediscussedinthispaperbyfactorsthatinfluencetheabilityoftheFaradaycopperthicknesscalculationformula,thispaper

5、deduceimpactacidicsulfatesolutionplatingcopperthicknessismainlyduetothecathodecurrentdensitydistribution.Thendiscussthecathodecurrentdensitydistributionandthedispersionrelations,concludesthatthedistributionofcurrentdensityandelectrolytesolutiondispersionforceforparallelrelations

6、hip,foundthefactorsinfluencingthedispersionabilityofplatingsolutionare:(1)theshapeoftheelectrolyticcellandthedifferencebetweenthefarandnearthecathodeandanodedistance(3£);(2)thedistancebetweencathodeandanode(L,);(3)polarizationratioofthesizeoftheplatingsolution(;(4)oftheplatingdD

7、solutionresistivity(/?)•Andthenputforwardtheimprovementschemeisasfollows:(1)changetheshapeoftheelectrolyticcell;Morepartswiththedistancebetweenanodeandusehieroglyphicanodeandcathodeprotectionmethod;(2)makepartsevenlyarrangedintheelectrolyticcell;(3)selecttheappropriatecomplexing

8、agentsandadditives,improvecathodepolarizationdr