镍基摩擦复合镀层的制备与性能研究

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时间:2019-02-06

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1、摘要在各种机电产品的过早失效破坏中,约有70%是由于摩擦和磨损造成的,因此提高材料的减摩耐磨性能尤为重要。复合电镀技术所需的投资少,操作简便,并可依据不同的使用要求来控制镀层的性能,因而具有广泛地应用前景。近年来,随着纳米科技的发展,形成了以纳米级颗粒代替微米级颗粒的纳米复合电镀技术,使得纳米复合镀层拥有比普通镀层更高的硬度、耐磨性、自润滑性等。本论文经过了大量的筛选实验,确定了Ni.PTFE镀层的最佳制备工艺:pH3.5;阴极电流密度7A/dm2;温度60℃;PTFE含量48ml/L;施镀时间60mira随电流密度、温度、pH

2、值、PTFE含量的增加,Ni.PTFE镀层的沉积速率先增加后减少。Ni.P.Si3N4(ran)镀层的最佳工艺参数为:阴极电流密度3A/din2;Si3N4(nm)含量0.5∥L;pH4,8:温度75。c;施镀时间为60min。沉积速率随电流密度、pH值、温度和电镀时间的增加呈现先增后减的趋势;但随si3N4颗粒浓度的增加而逐渐减少,最后趋于平缓。利用XRD、SEM、显微硬度仪、摩擦磨损试验机等系统地研究了镍基摩擦复合镀层的形貌、结构、硬度和摩擦磨损等性能。在最佳工艺下,Ni.P.Si3N4(nm)复合镀层表面均匀平整,颗粒致密

3、。经400℃热处理后,硬度值可高达995.8HV,远高于Ni.P镀层。在相同载荷和磨损时间下,Ni.P—Si3N4(rlm)复合镀层的摩擦系数和磨损量都明显小于Ni.P镀层。Ni.PTFE镀层致密、光滑、均匀;在相同载荷和磨损时间下,Ni—PTFE镀层的摩擦系数和磨损量低于Ni—P.Si3N4(rim)复合镀层。在Ni·P—Si.3N4(nm)、Ni-PTFE镀层的基础上,又制各出Ni.PTFE—Si3N4复合镀层。与Ni.PTFE、Ni。P.Si3N4镀层相比,Ni—PTFE.Si3N4镀层不仅具备较高的硬度(612.8HV)

4、,而且具有优良的减摩耐磨综合性能。关键词:摩擦复合镀层纳米颗粒制备工艺硬度耐磨性ABSTRACTItwasshowedbyearlyresearchesthatnearly70%failureofthecomponentswascausedbyfrictionandwear,whichledgreatlosstOthecivileconomy.Therefore,itisofgreatimportancetoimprovethecomponents’propertiestofrictionandwear.Compositepla

5、tingtechniqueshavetheadvantagesoflessinvestment,easieroperationaswellasthepropertiesadjustmentwiththedifferentdesiredrequirements,SOthathaveaveryprosperousapplicationinsurfacescienceandengineering.Inrecentyears,withthedevelopmentofnano-technology,nano-compositeplatin

6、gtechniqueshavebeengraduallyformed.Comparedwiththecommonlayerwithmicronparticles.thellanO·compositecoatingshavehigherhardness,betterself-lubricatingperformanceandhigherweal-resistance.Agreatdealofselectiveexperimentshasbeendonetoexploretheoptimalpreparationparameters

7、oftheNi—basedcoatings.ThebestparametersforNi—PTFEcoatingareasfollows:pH3.5,cathodiccurrentdensity7A/cm2,60min,60℃and48mol/LPⅡEcontent.WhereasforNi—P-Si3N4coatings.theoptimalparametersarepH4+8,cathodiccurrentdensityof3A/dm。,60min,75"CandO.59/LSi3N4content.Accompanied、

8、Ⅳitlltheincreasingoffactorslistedabove.theplatingrateofNi-P—Si3N4coatingexhibitedatrendoffirstlyincreaseandthendecrease.Inaddition,

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