犜犉犜犔犆犇玻璃基板精细雾化抛光的工艺参数优化

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1、第２８卷第２期中国表面工程Ｖｏｌ．２８Ｎｏ．２２０１５年４月ＣＨＩＮＡＳＵＲＦＡＣＥＥＮＧＩＮＥＥＲＩＮＧＡｐｒｉｌ２０１５ｄｏｉ：１０．１１９３３／ｊ．ｉｓｓｎ．１００７９２８９．２０１５．０２．０１４犜犉犜犔犆犇玻璃基板精细雾化抛光的工艺参数优化莫益栋，李庆忠（江南大学机械工程学院，江苏无锡２１４１２２）摘要：为了研究抛光工艺参数（抛光压力、抛光台转速、抛光液流量）对精细雾化抛光ＴＦＴＬＣＤ玻璃基板的影响，实现对玻璃基板的高效、高质量加工，采用正交试验方法对玻璃基板进行雾化抛光，以材料去除率（ＭＲＲ）和表面粗糙度（犚ａ）为评价指标，根据实验结果得到最优的工艺参数组

2、合，并将传统抛光和雾化抛光进行了对比。结果表明：当压力为０．０５５ＭＰａ，抛光台转速为６５ｒ／ｍｉｎ，抛光液流量为８．３ｍＬ／ｍｉｎ时，雾化抛光的材料去除率为２１９ｎｍ／ｍｉｎ，表面粗糙度犚ａ为１．１ｎｍ，光学透过率≥９２．６％。在相同的试验条件下，传统抛光的去除率和表面粗糙度分别为３３５ｎｍ／ｍｉｎ和１．２ｎｍ，两种方法的抛光效果相近，但雾化方法抛光液用量仅为传统的１／１０。关键词：化学机械抛光；玻璃基板；精细雾化；正交试验中图分类号：ＴＧ１７５文献标志码：Ａ文章编号：１００７９２８９（２０１５）０２０１２１０５犗狆狋犻犿犻狕犻狀犵犘狉狅犮犲狊狊犘犪狉犪犿犲狋犲狉狊狅

3、犳犝犾狋狉犪狊狅狌狀犱犉犻狀犲犃狋狅犿犻狕犪狋犻狅狀犆犕犘狅狀犜犉犜犔犆犇犌犾犪狊狊犛狌犫狊狋狉犪狋犲ＭＯＹｉｄｏｎｇ，ＬＩＱｉｎｇｚｈｏｎｇ（ＣｏｌｌｅｇｅｏｆＭｅｃｈａｎｉｃａｌＥｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ，ＪｉａｎｇｎａｎＵｎｉｖｅｒｓｉｔｙ，Ｗｕｘｉ２１４１２２，Ｊｉａｎｇｓｕ）犃犫狊狋狉犪犮狋：Ｔｏｉｎｖｅｓｔｉｇａｔｅｔｈｅｉｎｆｌｕｅｎｃｅｏｆｔｈｅｐｏｌｉｓｈｉｎｇｐｒｅｓｓｕｒｅ，ｔｈｅｒｏｔａｔｉｎｇｓｐｅｅｄｏｆｔｈｅｐｏｌｉｓｈｉｎｇｐａｄａｎｄｔｈｅｆｌｏｗｒａｔｅｏｆｐｏｌｉｓｈｉｎｇｆｌｕｉｄｏｎｕｌｔｒａｓｏｕｎｄｆｉｎｅａｔｏｍｉｚａｔｉｏｎ

4、ｃｈｅｍｉｃｌａｍｅｃｈａｎｉｃａｌｐｏｌｉｓｈｉｎｇ（ＣＭＰ）ｏｆＴＦＴＬＣＤｇｌａｓｓｓｕｂｓｔｒａｔｅ，ａｎｄｔｏｒｅａｌｉｚｅｐｏｌｉｓｈｉｎｇｗｉｔｈｈｉｇｈｅｆｆｉｃｉｅｎｃｙａｎｄｑｕａｌｉｔｙ，ａｎｏｒｔｈｏｇｏｎａｌｄｅｓｉｇｎｗａｓｅｍｐｌｏｙｅｄ．Ｔｈｅｍａｔｅｒｉａｌｒｅｍｏｖａｌｒａｔｅ（ＭＲＲ）ａｎｄｔｈｅｓｕｒｆａｃｅｒｏｕｇｈｎｅｓｓ（犚ａ）ｗｅｒｅｔａｋｅｎａｓａｓｓｅｓｓｍｅｎｔｆａｃｔｏｒｓ，ａｎｄｔｈｅｂｅｓｔｐａｒａｍｅｔｅｒｃｏｍｂｉｎａｔｉｏｎｗａｓｏｂｔａｉｎｅｄａｃｃｏｒｄｉｎｇｔｏｔｈｅｔｅｓｔｒｅｓｕｌｔ．Ｔｈｅｎ

5、ｔｈｅｐｏｌｉｓｈｉｎｇｅｆｆｅｃｔｓｏｆｔｈｅｔｒａｄｉｔｉｏｎａｌｐｏｌｉｓｈｉｎｇａｎｄｔｈｅｕｌｔｒａｓｏｎｉｃａｔｏｍｉｚａｔｉｏｎｐｏｌｉｓｈｉｎｇｗｅｒｅｃｏｍｐａｒｅｄ．Ｔｈｅｒｅｓｕｌｔｓｓｈｏｗｔｈａｔｉｎｕｌｔｒａｓｏｎｉｃａｔｏｍｉｚａｔｉｏｎｐｏｌｉｓｈｉｎｇ，ｔｈｅＭＲＲｉｓ２１９ｎｍ／ｍｉｎａｎｄ犚ａｏｆｔｈｅｇｌａｓｓｓｕｂｓｔｒａｔｅｉｓ１．１４ｎｍ．Ｗｈｅｎｐｏｌｉｓｈｉｎｇｐｒｅｓｓｕｒｅｉｓ０．０５５ＭＰａ，ｔｈｅｒｏｔａｔｉｎｇｓｐｅｅｄｏｆｔｈｅｐｏｌｉｓｈｉｎｇｐａｄｉｓ６５ｒ／ｍｉｎａｎｄｔｈｅｆｌｏｗｒａｔｅｏｆｐｏｌｉ

6、ｓｈｉｎｇｆｌｕｉｄｉｓ８．３ｍＬ／ｍｉｎ．Ｕｎｄｅｒｔｈｅｓａｍｅｔｅｓｔｃｏｎｄｉｔｉｏｎｓ，ｔｈｅＭＲＲａｎｄ犚ａｏｆｔｈｅｔｒａｄｉｔｉｏｎａｌｐｏｌｉｓｈｉｎｇａｒｅ３３５ｎｍ／ｍｉｎａｎｄ１．２０ｎｍｒｅｓｐｅｃｔｉｖｅｌｙ．Ａｌｔｈｏｕｇｈｔｈｅｐｏｌｉｓｈｉｎｇｅｆｆｅｃｔｓｏｆｔｈｅｓｅｔｗｏｍｅｔｈｏｄｓａｒｅｃｌｏｓｅｔｏｅａｃｈｏｔｈｅｒ，ｔｈｅｑｕａｎｔｉｔｙｏｆｔｈｅｓｌｕｒｒｙｉｎｕｌｔｒａｓｏｎｉｃａｔｏｍｉｚａｔｉｏｎｐｏｌｉｓｈｉｎｇｉｓｏｎｌｙ１／１０ｏｆｔｈａｔｉｎｔｒａｄｉｔｉｏｎａｌｐｏｌｉｓｈｉｎｇ．犓犲狔狑狅狉犱狊：ｃｈｅ

7、ｍｉｃａｌｍｅｃｈａｎｉｃａｌｐｏｌｉｓｈｉｎｇ（ＣＭＰ）；ｇｌａｓｓｓｕｂｓｔｒａｔｅ；ｆｉｎｅａｔｏｍｉｚａｔｉｏｎ；ｏｒｔｈｏｇｏｎａｌｅｘｐｅｒｉｍｅｎｔ［１２］０引言视、笔记本电脑、手机、监视器等设备上。每片ＴＦＴＬＣＤ显示器面板都需两片玻璃ＴＦＴＬＣＤ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍｔｒａｎｓｉｓｔｏｒｌｉｑｕｉｄｃｒｙｓ［３］基板，用作底层玻璃基板和彩色滤光片底板，ｔａｌｄｉｓｐｌａｙ，薄膜晶体管液晶显示器）具有图像细腻逼真、重量轻、功耗低、环保性能好的优点，是显示器的分辨率、透光率等都与玻璃基板有关。唯一可跨越所有尺寸的显示技术，主