超深亚微米PMOSFET器件NBTI研究

超深亚微米PMOSFET器件NBTI研究

ID:37038442

大小:3.44 MB

页数:71页

时间:2019-05-20

超深亚微米PMOSFET器件NBTI研究_第1页
超深亚微米PMOSFET器件NBTI研究_第2页
超深亚微米PMOSFET器件NBTI研究_第3页
超深亚微米PMOSFET器件NBTI研究_第4页
超深亚微米PMOSFET器件NBTI研究_第5页
资源描述:

《超深亚微米PMOSFET器件NBTI研究》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在学术论文-天天文库

1、摘要摘要本文主要针对超深亚微米PMOSFET中的NBTI效应进行了深入研究,基于Virtuoso软件平台,完成了NBTI钡JJ试芯片的版图设计,并在和舰科技参加特征尺寸为0.18“m1P6MCMOSq-艺的MPW流片;参考大量国内外文献,设计出了NBTI试验方案,并对NBTI试验相关问题进行了深入讨论;通过对试验结果的分析,进行了NBTI效应的失效模式和失效机理研究,NBTI寿命相关因素研究,NBTI和HCI混合效应的研究,最终实现了NBTI效应以及NBTI和HCI混合效应的可靠性寿命评价。利用制作的NBTI测试芯片和设计出的NBT

2、I试验方案,分析了NBTI效应对PMOSFET器件特性及参数的影响,不同的器件参数随NBT应力时间漂移,NBT应力和PMOSFET器件参数对阈值电压漂移量AV。h的影响,研究表明NBTI效应使得器件I.V特性变差和器件参数漂移,不同的器件参数遵循n=0.27-0.29的小数幂函数关系,其中V。h退化最为严重,因此将Vth作为寿命评价的标准,NBT应力增强和PMOSFET器件结构参数缩小都会使器件的阈值电压Vth漂移增强。采用阈值电压漂移量△Vth作为器件寿命评价的标准,研究结果表明PMOSFET的NBTI寿命主要与应力时间t,应力温

3、度T,负栅压应力V路,器件结构参数如沟道宽度W,沟道长度L有关。基于试验测量的结果,得到了阈值电压漂移量AVth的寿命评价表达式,用来预测器件中由NBTI效应限制的寿命。对NBTI和HCI混合效应进行了大量试验,试验结果表明PMOSFET器件阈值电压Vth和饱和漏极电流Id;。。随应力时问退化的斜率大于单独NBT应力下的退化斜率,说明器件参数的退化是由NBTI机制和HCI机制共同作用的;利用NBT应力引起的AV。h与沟道长度L无关的特性,分解出了NBT+HC应力下的HCI效应对△V。h的贡献;利用NBT+HC应力下AVlh与饱和漏极

4、电流退化率%Id;。。成线性关系的特性,以Id。。。作为评价标准,得出了NBTI和HCI混合效应的评价表达式。关键词可靠性:寿命评价;NBTI;HCI;阈值电压ABSTRACTThisthesismainlyinvestigatestheNBTIdegradationphenomenaandmechanisminUltra-deepsubmicronPMOSFET.BasedonthesoftwareplatformVirtuoso,layoutofNBTItestchipsaredesigned,andjoined0.18I_tm

5、1P6MCMOSMPWflowinHEJIAN;alotofreferencesathomeandabroadareread,andNBTItestprojectisdesignedfinally,thensomeproblemsaboutNBTItestmethodaredeeplydiscussed;ontheanalysisoftestresults,failuremodeandfailuremechanism,NBTIlifetimefactors,coupleeffectsofNBTIandHCIareresearched

6、,reliabilitylifetimeevaluationforNBTIeffectandthecoupleeffectsofNBTIandHCIarefinishedatlast.UsingtheNBTItestchipandtestproject,theinfluenceonPMOSFETdevicecharacteristicsandparametersbyNBTIeffect,variousdeviceparametersshiftVS.NBTIstresstimeandtheinfluenceonthresholdvol

7、tageshiftAVthbyPMOSFETdeviceparametersareanalyzed,researchindicatethatparametersofPMOSFETcan.beshittedcontinuallyanddeviceI-Vcharacteristicsgrowworsen,theshiftofdifferentdeviceparametersfollowedthepower-lawrelationship(n=O.27-0.29)withNBTstresstime,Vthhasthemaximumshif

8、tsandneedtoactaskeyparameterforlifetimeprediction.TheincreaseofNBTstressandthescalingofPMOSFETdevicestructureparamete

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文

此文档下载收益归作者所有

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文
温馨提示:
1. 部分包含数学公式或PPT动画的文件,查看预览时可能会显示错乱或异常,文件下载后无此问题,请放心下载。
2. 本文档由用户上传,版权归属用户,天天文库负责整理代发布。如果您对本文档版权有争议请及时联系客服。
3. 下载前请仔细阅读文档内容,确认文档内容符合您的需求后进行下载,若出现内容与标题不符可向本站投诉处理。
4. 下载文档时可能由于网络波动等原因无法下载或下载错误,付费完成后未能成功下载的用户请联系客服处理。