临床医学毕业论文栓道式精密附着体修复双侧游离端牙列缺损的临床观察

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1、XX大学毕业论文栓道式精密附着体修复双侧游离端牙列缺损的临床观察姓名：2014年6月25日栓道式精密附着体修复双侧游离端牙列缺损的临床观察【摘耍】目的观察带塑料插入件的栓道式精密附着体在双侧后牙游离缺失修复的临床效果。方法应用带塑料插入件栓道式糟密附着体修复双侧后牙游离缺失32例，观察附着体义齿的固位、稳定、功能等情况。结果经过两年随访，患者对义齿的美观性、舒适性、固位、咀嚼及发音情况表示满意，对128颗基才复查无叩痛、无松动，影像检查未见支持组织明显改变，其中15颗基牙牙龈边缘红肿经治疗后好转。结论栓道式精密附着体用于游离缺损，修复效果良好。【关键词】精密附者体游离缺

2、失义齿双侧后牙游离缺失，用常规卡环固位型可摘局部义齿修复，具有稳定性差、易翘动、易旋转、下沉、易压痛、效率低下、美观不良等缺点。而精密附着体是一种嵌锁型固位装置，一部分固定于基牙，一部分与基托或桥体相连，起固位、支持、稳定作用[1],属于固定活动联合修复。由于其美观、结构精密、固位、稳定性强等特点，口前更多的被应用在游离端缺失的病例上。木文应用带蜩料插入件栓道式精密附着体修复双侧后才游离缺失的病例，取得良好效果，现报道如下。材料和方法1•研究对象从2003年到2006年随机选择了门诊符合纳入标准的病人共32例128颗基牙，其中男性10例，女性22例。年龄最大67岁，最小

3、38岁。14例为首次修复，其余均做过常'规修复体修复患者，因出现界物感、咬合痛、美观不佳等不满意而改做精密附着体患者。2.纳入及排除标准纳入标准：①邻近缺牙区龈颌距离26〜8mm。②肯氏I类缺失，至少每侧余留一个双尖牙的患者。③基牙牙体及牙周条件良好。有牙周病变者均经过系统才周治疗，基分分榊骨吸收控制在根长1/3以内。有牙髓病变进行完善根管治疗。排除标准：①患全身系统性疾病。②丧失清洁口腔卫生能力者。③基牙患冇牙体牙周疾病，经治疗未控制者。④基牙无足够的龈颌高度及足够的颊舌径。2.双侧游离缺失精密附者体的设计及制作(1)准备工作对口腔进行全面的检查，进行牙周病的基础性治

4、疗。使余留牙牙周炎症得到缓解，松动度有所改善，且无明显伸长，移位，记录余留牙情况，取研究模型,检查各个颌位间的接触关系，确定是否需要调颌及调颌部位。尽可能恢复颌曲线及颌平而的正确位置。(2)制取功能性印模制作个别托盘，放置印模材料于托盘内，托盘在义齿鞍基就位后让患者咬颌以取得印模。设计选择双基牙加横腭杆或舌杆的可摘局部义齿，基牙预备与金屈烤瓷牙的预备相同，牙体制备时应注意联冠基牙Z间有共同就位道，以保证顺利就位。不同之处为舌腭侧应比常规多磨除少许牙体组织，以确保舌侧支撑臂的厚度和强度。(3)试戴和粘结将修复体试戴入口内，检查修复体是否密合，对可摘义齿进行调颌，不可随意磨

5、改精密附着体，试戴合适后，取下修复体，进行基牙牙冠粘固，将粘接剂调拌后置入冠内，即刻戴入修复体，作正中咬颌，在粘接剂还没完全固化时，取出修复体可摘部分，去净冠边缘粘接剂后将修复体完全就位，在粘接剂硬化24小时后才取下义齿并教病人取戴。结果32例病例随访两年，就美观舒适、咀嚼效率、适应性、义齿稳定性、基牙情况、发音等方面进行随访。主观评价：32例患者感觉美观舒适，异物感小，稳定性强，无翘动，咀嚼有力。基牙方面：对128颗基牙复查无叩痛、无松动,影像检查未见支持组织明显改变，其中15颗基才才龈边缘红肿经治疗后好转。18例曾作过传统义齿的患者诉附着体较原义齿舒适，稳定无翘动，

6、无下沉，黏膜无压痛，咀嚼效能大为提高讨论双侧末端游离缺失可摘局部义齿修复是临床常见的牙列缺损修复类型，尤其在老年修复患者中，游离端缺失约占58%[2]。固定义齿适应性较窄，不能用于多个牙游离端缺失的修复；常规可摘局部义齿用于游离端缺失的修复，往往因为固位稳定性差，义齿易发生旋转、下沉、摆动、翘起等现象，造成基牙受扭力创伤松动、义齿下沉、黏膜压痛、咀嚼效能低下，特别是对要求比较高的患者，在进行缺牙修复的同时，述希望义齿美观，而常规卡环式可摘局部义齿又无法满足美观及功能恢复的较高要求。栓道式糟密附着体兼有固定义齿和常见可摘局部义齿的特点，为一•种嵌锁型固位装置，嵌体固定于基

7、牙的金瓷联冠上，栓道部分与可摘局部义齿相连，用于修复游离端牙列缺损有着卡环式可摘局部义齿不可比拟的优越性。本组32例患者应用带塑料插入件栓道式精密附着体修复双侧后牙游离缺失，经过两年随访，患者对义齿的美观性、舒适性、同位、咀嚼及发音情况表示满意。18例曾作过卡环式可摘局部义齿的患者诉附着体较原义齿舒适,稳定无翘动，无下沉，黏膜无压痛，咀嚼效能大为提高。栓道式精密附着体属于冠外固位体的一种，两部件之间为非固定形态，当受到较大的咬颌力时，发生在附着体上的旋转应力伴随着附着体内部的弹性应力中断，作用于阳性部件和阴性部件之间，分布在基牙上的应力大