轮胎工艺资料.ppt

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时间:2020-01-17

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1、轮胎生产用原材料原辅材料区分原材料:是指以材料原来的形态构成成品或在成品内部维持材料特性的配合物。辅材料:是指在成品制造过程中不能构成产品实体的材料。从轮胎断面图看轮胎用材料3241区分材料名称1胶料,包含配合剂2金属织物帘线3胎圈钢丝4纤维织物帘线轮胎用原材料统计配合体系硫化体系:含硫化剂、促进剂、活性剂等,使橡胶通过化学交联,形成立体网状结构,使可塑的粘弹胶料转变为可使用的高弹硫化胶。补强填充:保证胶料具有要求的力学性能,改善加工工艺并降低成本。防护体系:提高硫化胶的耐老化性能,对各类型的老化起防护作用,在一定程度上延长了制品的使用寿命。软

2、化增塑:改善加工性、耐寒性,也可降低成本。主体材料:是决定硫化胶使用性能及工艺性能的主要因素。骨架材料胎圈钢丝纤维织物类:尼龙6、尼龙66、聚脂类、人造丝、芳纶等。金属织物类:钢丝帘线,包括有纬及无纬两种,常用到的为无纬钢丝帘线,按帘线的构成上分,又有OC、CC、普通分类,按强度上分又有普强(NT)、高强(HT)、超高强(UT)等。作为轮胎受力的主要部位胎圈的主体,直径及强度不同有不同的分类。1主体材料2补强填充3硫化体系4防护体系5增塑软化6配合其它7骨架材料8胎圈钢丝CONTENTS一主体材料NRSBRBRIIR主体材料就是橡胶及其它高分子

3、材料,决定了制品的性能与用途。我公司主要使用橡胶材料。6天然橡胶(NR)天然橡胶是指从自然界中获得的,主要的采集对象是巴西橡胶树!NR的主要生产国:泰国、马来西亚、印度尼西亚、中国、印度等,NR的种类:烟片胶、颗粒胶(标准胶)、恒粘或低粘等特殊天然胶等。我公司现用NR有RSS#3(烟片),STR10#、STR20#、SCR5#(标准),SMR_L(低粘类)。主体材料介绍——NRNR相关性质NR大分子链结构单元是异戊二烯,其它基团位于末端或支链中。非橡胶类物质占总量的5%-8%,为蛋白质、水/灰份、丙酮抽出物。忽略此类相关,NR的结构式可认为是:

4、区分特点区分特点类型不饱和非极性的自补强橡胶粘着性粘着性好耐磨性弹性较好,仅次于BR,耐磨性好机械强度格林强度高,拉伸强度高耐龟裂性气密性好化学稳定性链烯烃化学反应,返原及老化耐溶剂性耐酸碱良,耐油及燃料油差电绝缘性一种较好的绝缘材料耐寒性耐寒性好,耐热性差加工性能易塑炼,易包热辊,塑性大,易于压出,加工性能良好NR的使用特点:合成橡胶(SR):合成橡胶是人们采用化学加工方法由相关单体制作的具有橡胶特征的高弹性聚合物材料。如SBR是由丁二烯与苯乙烯经化合而成的高弹聚合体。常见的SR有:异戊橡胶(IR)、丁苯橡胶(SBR)、顺丁橡胶(BR)、丁基

5、或卤化丁基橡胶(IIR、X-IIR)、乙丙橡胶(EPM、EPDM)等。其中各不同种类又有不同牌号的商品。公司用:SBR1712、SBR1500、SBR1721、SBR1502、BR9000、IR、EPDM、Br_IIR等。主体材料介绍——SRSBR(丁苯胶料)简介1)丁苯胶是世界产量、用量最大的合成胶,且70%用于轮胎制造业。2)SBR单体为丁二烯(C=C-C=C)、苯乙烯()。3)在正常的SBR中,苯乙烯含量为23.5%(重量%),摩尔比为1:6。4)按聚合方法分类,SBR有乳液聚合(E-SBR)、溶液聚合(S-SBR)。5)SBR较NR耐磨

6、耗、湿地抓着力高,但生热高,加工困难。6)溶聚较乳聚有较低的滚动阻力,高的抗湿滑性及良好的综合性能。C=CSBR的基本情况SBR:Styrene-ButadieneRubberSBR的分类区分BR的简单介绍BR:polyButadieneRubber,高顺式聚丁二烯橡胶。轮胎行业主要使用高顺式的聚丁二烯橡胶。BR的特点及使用BR因为其分子链不含侧基,分子链的柔性好,所以具有以下特点:1)良好的弹性和优异的耐寒性,很低的玻璃化温度。2)耐磨耗性好,耐老化性能好,但老化后变硬且易崩花。3)动态生热低,但湿动抓着力不好。4)耐曲挠性良好,但抗刺穿性不

7、佳。在轮胎行业BR的使用:1)S/W部,与NR并用,以改善耐曲挠、耐O3老化性能。2)T/D部,与NR/SBR并用,增加胶料的耐磨耗性,保持良好的热稳定性及低的行驶温度。IIR的简单介绍IIR:丁基橡胶,异丁烯橡胶。由异丁烯与少量异戊二烯聚合。前者是主体材料,后者是用于提供可交联的双键。IIR具有高饱合度。H_IIR的简单介绍H_IIR:卤化丁基橡胶,包括氯化、溴化。目的:1)提高硫化速度;2)提高与不饱和橡胶的相溶性。3)改善自粘性和与其它材料的互粘性;4)氯化的含氯量为1.1%~1.3%,溴化的含溴量约为2%。IIR、H_IIR的特点及应用

8、1)优良的化学稳定性、耐水性、耐油性及绝缘性。2)低的弹性及优良的阻尼性。3)优异的气密性(低的气压损失率)。IIR、H_IIR的特点IIR、H_II

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