烟气脱硝技术应用现状与研究进展.pdf

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1、第3l卷第3期四川环境Vo1.31.NO.32012年6月SICHUANENVIRONMENTJune2Ol2·综述·烟气脱硝技术应用现状与研究进展王天泽,一,楚英豪,郭家秀,尹华强’(1.四川大学建筑与环境学院,成都610065;2.四川大学国家烟气脱硫工程技术中心,成都610065)摘要:氮氧化物的污染危害是一个不容忽视的问题,有效控制氮氧化物污染已经刻不容缓。针对目前氮氧化物污染状况,分析了烟气脱硝的重要性与紧迫性。介绍了国内外烟气脱硝技术应用现状和研究进展,对各类烟气脱硝技术进行了分析和

2、对比。针对目前烟气脱硝技术以干法为主的现象,着重介绍了SCR和SNCR两种脱硝技术。关键词:烟气脱硝;SCR;SNCR中图分类号:X701.3文献标识码:A文章编号:1001—3644(2012)03-0106-05StatusQuoofApplicationandDevelopmentofFlueGasDenitrationTechnologyWANGTian—ze’,CHUYing—hao·,GUOJia.xiu’,YINHua—qiang’(1.CollegeofArchitecture&

3、EnvironmentofSichnanUniv,Chengdu610065,China;2.TheStateFlueGasDenhr~ionEngineering&TechnologyCenter,Chengdu610065,China)Abstract:Thepollutionofoxynitrideisaproblemneedingattentionandcontrolurgently.AccordingtOthecurrentpollutionsituationofoxynitride,

4、theimpo~anceandimpendenceoffluegasdenitrationwereanalyzed.theapplicationstatusanddevelopmentoftechnologiesforfluegasdenitrationathomeandabroadwereintroduced,anddiferentkindsoffluegasdenitrationtechnologywereanalyzedandcompared.Asthedominanttechnology

5、offluegasdenitrationinChinaisdry—process,thetechnologiesofSNCRandSCRwereintroducedemphatically.Keywords:Fluegasdenitration;SCR;SNCRNO是造成大气污染的主要污染源之一,它2020年和2030年,中国NO排放总量将分别达到包括NO,NO2,N2O5,N203,NO3,N204等,污2900和4000万t2J。目前,NO的污染状况已引染大气的主要是NO和NO。NO的排放会

6、给自然起国际社会的广泛关注。近年来,国内外对氮氧化环境和人类生产、活动带来严重的危害,包括对人物控制技术的研究取得了很大的进展。烟气脱硝技体的致毒作用、对植物的损害作用、形成酸雨或酸术是一种NO生成后进行控制的技术,主要是通雾、与碳氢化合物形成光化学烟雾、破坏臭氧层过各种物理、化学过程固定烟气中的NO或者使等。烟气中的NO还原为N,也称为烟气脱氮技术。NO的来源一般分为自然来源和人为来源,按照其作用原理的不同,可分为催化还原、吸收和随着工业的发展,人类活动产生的NO已经成为吸附3类。按照工作介质

7、的不同可分为湿法和干法其主要来源。全球氮氧化物的排放量逐年增长,以两类J。本文将分湿法和干法对脱硝技术进行概我国为例,若不采取进一步的排放控制措施,到述。收稿日期:2012-02-271湿法烟气脱硝技术基金项目:国家自然科学基金(50808127)。1.1酸吸收法作者简介:王天泽(1987一),男,四川成都人,I~JII大学建筑与环境学院环境工程专业2011级在读硕士研究生,主要从事烟NO在硝酸中的溶解度比在水中大得多,因此气脱硫、脱硝催化剂的研发。可用硝酸吸收NO尾气。NO可充分地被浓硫酸3期

8、王天泽等:烟气脱硝技术应用现状与研究进展107吸收,利用此性质,可以把NO+NO:吸收到浓硫本相对较低,且硝酸的来源和作为氧化剂的稀硝酸酸中,制成亚硝酸硫酸(NOHSO)。酸吸收法中的回收都不成问题。研究较多的是以上方法,除此之外,还有一些同时1.5液相还原吸收法脱硫脱硝技术中用到了酸吸收法,文献[4—6]液相还原吸收法脱硝是利用液相还原剂将研究了杂多酸同时脱硫脱硝技术。其中马双忱NO还原为N,常用的还原剂有亚硫酸盐、硫代等的研究表明,钼硅酸溶液及其还原态的钼蓝硫酸盐、硫化物、尿素水溶液等J。在

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