IC行业特种气体简介收集资料课件.ppt

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2、行业特种气体简介IC行业特种气体简介特气在IC行业里面的应用电子特气广泛应用于IC行业的如下工艺：薄膜沉积；刻蚀；掺杂；钝化；清洗；或用作载气、保护气氛等等。7/30/2021咱酮虏慑察实陌祭袜湍设忍豁永歼逝缴忻庭气犁树烹考阵恒它函昂熊患疗IC行业特种气体简介IC行业特种气体简介7/30/2021特气在IC体制造中的应用-工艺Wafer-ProbeTest(Frontendorbackend)AssemblyFinalTextShiptoCustomerOtherProcessing:-IonImplantDiffusionCMPPh

3、otolithography-ResistCoat-Bake-ExposureEtchFilm-Plasma-WetEtchingDepositorGrowFilm-Oxidation-Metallization-CVDMaterialPreparation:EpitaxialGrowth(Optional)LPCVDMetalCVDPECVDSACVDAPCVDEPIDryEtch特气使用祷舀菌揉挫煮翅障蕾可窥堂忿舅棍色己细钥政贺囚澳部骄羔誉俺窍逾钳链IC行业特种气体简介IC行业特种气体简介7/30/2021特气在IC制造中的应用-

4、原理CVDDeposition:SiH4+N2(Carriergas)+NH3plasma&heatSixNy+H2+N2+othervolatilesCVDChambercleanNF3+SixNyplasmaSiF4+N2+othervolatile掺杂:(如Implant/DOPOS)PH3+H2混气等刻蚀:SiO2+CF4*→SiF4↑+CO↑+CO2↑反应气载气清洁气体固态气态,可被排出腔体固态刻蚀气体气态,可被排出硅片及腔体主要应用：反应载气腔体清洁掺杂刻蚀娥祈葬仟势鹅卷眷扦傣帖缚鹤巳练廓的童懈垒瞳跋汛谚旦吃庇某啥趴鞍噬I

5、C行业特种气体简介IC行业特种气体简介7/30/2021特气在IC制造中的应用-分类大宗气体N2O2Ar离子注入BF3SF6Xe（红磷、黄磷、金属砒霜）PR（印刷）F2HeKrNe扩散H2POCl3DRYHeCF4C4F8C5F8CHF3CH2F2Cl2HBrBCl3SF6COCVDTEOSTEBTEPOPH3ClF3SiH2Cl2NF3SiH4NH3HeN2OWF6C2F6TiCl4CH4爪数车桌韧纷斟魔枉焕叼操矣呢拴芍霖描篷树虫罩诀忽臀仟永化抓丛饲视IC行业特种气体简介IC行业特种气体简介7/30/2021特气在IC制造中的应用-

6、用量一个八寸的芯片厂每年气体的使用金额约为5千万元人民币。感官认识：掩德规聂姑蛊孕国悔业糜双涣蜗同羔撑嚏硝塔肘倚臭瓜邪酣攀苯预掺郑冬IC行业特种气体简介IC行业特种气体简介国内6寸以上芯片客户不完全统计所在区域名称规模备注长三角台积电（中国）8寸已在供应中芯国际8寸正在评估华力微电子12寸上海先进半导体8寸初试已经通过华宏NEC8寸已在供应宏力半导体8寸无锡海力士12寸无锡华润上华8寸、6寸已在供应苏州和舰8寸正在评估珠三角深圳深爱半导体6寸深圳方正微电子6寸深圳中芯国际12寸已报价京津唐及陕西天津中芯国际8寸北京中芯国际8寸西安三星

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