介质阻挡放电等离子体在材料表面改性中的应用.pdf

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1、分类号:——UDC:密级编号介质阻挡放电等离子体在材料表面改性中的应用ApplicationofDielectricBarrierDischargePlasmainSurfaceModification学位授予单位及代码:量叠堡王盍堂!!Q!堑2学科专业名称及代码:塑理电王堂lQgQ2Ql2研究方向:出王堂皇出电王捷苤申请学位级别:亟—±指导教师:墨壹盛熬援研究生:丛—握论文起止时间:2009.9—2010.12长春理工大学硕士学位论文原创性声明本人郑重声明:所呈交的硕士学位论文,《介质阻挡放电等离子体在材料表面改性中的应用》是本人在指导教师的指导下,独

2、立进行研究工作所取得的成果。除文中已经注明引用的内容外,本论文不包含任何其他个人或集体已经拄表或撰写过的作品成果,对本文的研究做出重要贡献的个人和集体,均已在文中以明确方式标明。本人完全意识到本声明的法律结果由本人承担。作者签名盘盟年立月丝Et长春理工大学学位论文版权使用授权书本学位论文作者及指导教师完全了解“长春理工大学硕士、博士学位论文版权使用规定”,同意长春理工大学保留井向中国科学信息研究所、中国优秀博硕士学位论文全文数据库和CNKI系列数据库及其它国家有关部门或机构送交学位论文的复印件和电子版,允许论文被查阅和借阋。本人授权长春理工大学可以将本学

3、位论文的全部或部分内容编入有关数据库进行检索,也可采用影印、缩印或扫描等复制手段保存和汇编学位论文。作者签名:姓导师签名继迎止,立月苴日址年三月堕日摘要等离子体表面改性是适用于多种材料的一种表面改性技术,由于其效果显著和经济可靠的原因得到了生物工程、工业、医学等多个领域的关注。这种技术的独特优势就是材料表面的性质和生物特性被有选择性地改变,然而材料本身内部的性质不变。这篇论文回顾了多种常见的等离子体技术和实验方法,如等离子体射流、等离子体沉积、等离子体聚合、等离子体溅射等。并且通过两种介质阻挡放电等离子体装置研究等离子体对材料表面的影响。一种是利用大气压

4、等离子体射流,对聚四氟乙烯基底表面的疏水性进行改变。另一种是利用真空环境下平行平板介质阻挡放电装置对聚四氟乙烯薄片沉积类二氧化硅薄膜,从而改变其表面性质。在文章虽后,还探究了大气压等离子体射流装置沉积类二氧化硅薄膜的可行性。关键词:大气压等离子体射流介质阻挡放电等离子体聚四氟乙烯亲水性类二氧化硅薄膜ABSTRACTPlasma—surfacemodificationisaneffectiveandeconomicalsurfacetreatmenttechniqueformanymaterialsinbiomedicalengineering.indus

5、try,medicineThispaperreviewsthevariouscommonplasmatechniquesandexperimentalmethodswhichappliedtomanyresearch.suchasplasmasputteringplasmaimplantation.plasmadeposition.plasmapolymerization,laserplasmadepositionplasmasprayingandsoonTheuniqueadvantageofplasmamodificationisthatthesur

6、facepropertiesandbiocompatibilityc明beenhancedselectivelywhilethebulkofthematefialsremainunchangedAndresearchinlluenceonmaterials’surfacethroughtwokindsofDBDplasmadevicesOneiisesatmosphericpmssureplasmajet【APPJ)tochangesurfacehydrophobicofPTFEAnotheristodepositSi02一likefilmonPTFEt

7、hroughparallelplateDBDplasmainvacllul,1whichchangesitssurfacepropertiesAttheendofpaper.itexploresthefeasibilityofdepositionofSi02·likefilmbyusingAPPJK“words:APPJDBDplasmaPTFEhydrophobicSi02一likefilm目录摘要ABSTRACT第一章绪论⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯·⋯⋯111;I言⋯⋯⋯⋯⋯一⋯⋯112等离子体的概念及发生装置⋯⋯⋯⋯

8、⋯⋯⋯⋯·I1.21等离子体的基本概念⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯一21.22低温等离子体的产

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