多弧离子镀调查研究报告

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1、---多弧离子镀技术的现状调研引言物理气相沉积技术早在20世纪初已有些应用，但在最近30年迅速发展，成为一门极具广阔应用前景的新技术，并向着环保型、清洁型趋势发展。20世纪90年代初至今，在钟表行业，尤其是高档手表金属外观件的表面处理方面得到越来越为广泛的应用。离子镀技术是在真空蒸镀和真空溅射的基础上于20世纪60年代初发展起来的新型薄膜制备技术，于1963年由D．M．Mattox提出，1971年Chamber等发表了电子束离子镀技术，1972年又出现了反应蒸发镀（ARE）技术，并制作了TIN及TIC超硬膜。同年，MOLEY和SMITH将空心阴极技术应

2、用于镀膜。多弧离子镀属于离子镀的一种改进方法，是离子镀技术中的皎皎者。最早由苏联人开发，80年代初，美国的Multi-Arc公司首先把这种技术实用化，至此离子镀达到工业应用水平。离子镀种类很多，蒸发远加热方式有电阻加热、电子束加热、等离子电子束加热、高频感应加热等然而多弧离子镀与一般的离子镀有着很大的区别。多弧离子镀采用的是弧光放电，而并不是传统离子镀的辉光放电进行沉积。简单的说，多弧离子镀的原理就是把阴极靶作为蒸发源，通过靶与阳极壳体之间的弧光放电，使靶材蒸发，从而在空间中形成等离子体，对基体进行沉积。由于多弧离子镀技术具有镀膜速度高，膜层的致密度大

3、，膜的附着力好等特点，使多弧离子镀镀层在工具、模具的超硬镀膜、装饰镀膜等领域的应用越来越广泛，并将占据越来越重要的地位。离子镀技术是当前使用面最为广泛、最为先进的表面处理技术之一，而多弧离子镀更是其中的佼佼者。据不完全统计，国内外有近一半以上表面处理使用多弧离子镀技术，尤其是那些需要耐磨、耐蚀及特殊要求的场合。随着社会的进步，科学的发展，离子镀技术必将加完善。-.可修编.---目录引言11物理气相沉积技术31.1物理气相沉积技术种类31.2物理气相沉积技术主要厂商31.2.1PLATIT涂层设备公司31.2.2赛利涂层技术XX41.2.3欧瑞康巴尔查斯

4、XX41.2.4德国PVT涂层XX41.2.5瑞士Sulzer41.2.6亚特梯尔镀层科技XX51.2.7爱恩邦德技术XX51.2.8豪泽（Hauzer）技术镀层公司51.2.9丹普表面技术XX61.3物理气相沉积技术总结62多弧离子镀62.1多弧离子镀原理及工艺62.2多弧离子镀工艺特点72.3多弧离子镀膜设备72.3.1多弧离子镀膜设备构成72.3.2多弧离子镀膜设备厂家83多弧离子镀技术制备银膜93.1多弧离子镀设备制备银膜的特点93.2破坏银膜的主要因素93.3多弧离子镀设备制备银膜的改善94生产成本分析94.1成本分析的目的94.2成本分析的

5、根本任务104.3影响产品成本的主要因素：104.3.1建厂时带来的固有因素104.3.2宏观经济因素104.3.3企业经营管理因素104.3.4生产因素114.3.5其他影响因素115多弧离子镀工艺问题分析和改进方向115.1基体沉积温度115.2反应气体压强与流量115.3靶源电流115.4基体负偏压125.5基体沉积时间126结语13-.可修编.---1物理气相沉积技术1.1物理气相沉积技术种类物理气相沉积(PhysicalVaporDeposition，PVD)技术是在真空条件下，采用物理方法，将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部

6、分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。物理气相沉积的主要方法有（1）真空蒸镀；（2）溅射镀膜；（3）离子镀膜。发展到目前，物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜、还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等。1.1.1真空蒸镀真空蒸镀基本原理是在真空条件下，使金属、金属合金或化合物蒸发，然后沉积在基体表面上，蒸发的方法常用电阻加热，高频感应加热，电子束、激光束、离子束高能轰击镀料，使其蒸发成气相，然后沉积在基体表面，历史上真空蒸镀是PVD法中使用最早的技术。1.1.2溅射镀膜溅射镀膜基本原理是充氩气

7、的真空条件下，使氩气进行辉光放电，这时氩原子电离成氩离子，氩离子在电场力的作用下，加速轰击以镀料制作的阴极靶材，靶材会被溅射出来而沉积到工件表面。如果采用直流辉光放电，称直流(Qc)溅射，射频(RF)辉光放电引起的称射频溅射。磁控(M)辉光放电引起的称磁控溅射。1.1.3离子镀膜离子镀基本原理是在真空条件下，采用某种等离子体电离技术，使镀料原子部分电离成离子，同时产生许多高能量的中性原子，在被镀基体上加负偏压。这样在深度负偏压的作用下，离子沉积于基体表面形成薄膜。1.2物理气相沉积技术主要厂商1.2.1PLATIT涂层设备公司PLATIT公司总部位于瑞

8、士，属于BCI集团旗下企业。该公司是目前唯一只做设备不做涂层服务的公司。目前在国内的市场主要由