电子材料系列1，溅射靶材行业报告：“靶”关之材，国产替代进行时

《电子材料系列1，溅射靶材行业报告：“靶”关之材，国产替代进行时》由会员上传分享，免费在线阅读，更多相关内容在行业资料-天天文库。

1、证券研究报告行业研究/深度研究2018年02月12日行业评级：“靶”关之材，国产替代进行时有色金属增持（维持）电子材料系列1：溅射靶材行业报告稀有金属Ⅱ中性（维持）“靶”关之材，步入国产替代进程靶材是薄膜制备的关键原料之一，2016年全球市场规模113.6亿美元，国李斌执业证书编号：S0570517050001际半导体贸易协会（WSTS）预计2016-2019复合增速为13%，主要需求研究员libin@htsc.com增量来自半导体、显示、太阳能。靶材行业的技术和客户壁垒较高，2017邱乐园执业证书

2、编号：S0570517100003日美少数企业占据80%市场。随着国内产业政策扶持、半导体和显示产业研究员010-56793945向大陆转移等利好，国内靶材企业已打破国外垄断，成功切入全球主流半qiuleyuan@htsc.com导体、显示龙头供应链，国产替代进程加速。我们看好国内靶材企业全球孙雪琬0755-82125064市场份额的提升，建议关注江丰电子、有研新材、阿石创、隆华节能。联系人sunxuewan@htsc.com预计2016-2019全球靶材增速13%，半导体、显示、光伏为主要增长动力

3、相关研究随着磁控溅射技术发展，高纯溅射靶材成为制备薄膜材料的关键原料之一，主要应用于平板显示、记录媒体、电子器件半导体、太阳能、镀膜玻璃等；1《有色金属:锂板块情绪改善，关注低估值靶材的纯度、组织、晶粒尺寸等明显制约镀膜质量。WSTS数据显示，2016龙头》2018.02年全球溅射靶材市场需求达113.6亿美元，并预计2016-2019复合增速达2《南山铝业(600219,增持):深耕铝加工，业13%，2019年将超过163亿美元。2016全球靶材下游结构中，半导体占绩增长稳定》2018.0210%

4、、平板显示占34%、太阳能电池占21%、记录媒体占29%，靶材性3《有色金属:新能源景气下锂仍具备催化，能要求依次降低；其中前三大应用需求增速超过靶材整体增速，是靶材需把握板块回调契机》2018.02求增长的主要驱动力。一年内行业走势图市场集中度高，日、美占据80%高端靶材市场溅射靶材由于其高技术、高投资、高客户壁垒，具有规模化生产能力企业(%)较少，以霍尼韦尔、日矿金属、东曹、普莱克斯等为代表的靶材龙头企业282017年占据全球约80%靶材市场。美、日等跨国企业产业链较为完整，17囊括金属提纯、靶

5、材制造、溅射镀膜和终端应用各个环节，主导高端的半导体靶材市场；韩国、新加坡及中国台湾地区擅长磁记录及光学薄膜领域，6原料多从国外进口；中国靶材产业正处于起步阶段，逐步切入全球主流半导体、显示、光伏等龙头企业客户，原料以进口为主。(5)(16)国内靶材需求和供给反差悬殊，国产替代进程加速17/0217/0417/0617/0817/1017/122015国内靶材需求全球占比近25%，年增速约20%；但国内靶材企业市有色金属沪深300场份额不到2%，供需比例反差明显。随着国内溅射靶材技术的成熟和高资料来

6、源：Wind纯铝生产技术的提高，我国靶材生产成本优势明显，靶材原料之一高纯铝的国内进出口量差距也在逐步缩小。随着2019年国家进口靶材免税期结束，国内靶材企业优势更加突出。此外国家政策鼓励半导体和显示产业发展，我们预计2018-2020年国内靶材需求将维持20%以上高速增长，市场份额有望进一步扩大。国产靶企业异军突起，产能扩张正当时伴随靶材产业发展，我国出现少量专业从事高纯溅射靶材研发和生产的企业，参与国际化竞争。建议关注标的：1）江丰电子：国内半导体靶材龙头，成功打破日、美垄断，并开始布局显示靶材

7、。2）有研新材：有研集团控股企业，材料研发实力雄厚，实现半导体高纯金属和靶材一体化供应。3）阿石创：国内平面显示靶材领先企业，伴随显示产业发展机遇，快速扩建产能。4）隆华节能：收购四丰电子、广西晶联，显示靶材成为新增长极。风险提示：半导体、显示和薄膜太阳能电池对靶材需求增速不及预期。谨请参阅尾页重要声明及华泰证券股票和行业评级标准114925482/30242/2018021216:19行业研究/深度研究

8、2018年02月12日正文目录“靶”关之材，国家级战略产业..................

9、.....................................................................4溅射靶材是薄膜制备的关键原料...............................................................................4磁控溅射技术发展推升靶材需求..........................................................