PERC电池工艺KOH体系碱刻蚀抛光技术介绍 -捷佳伟创.pdf

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1、PERC电池工艺KOH体系碱刻蚀抛光技术介绍深圳捷佳伟创研发部2018/6Outline1碱抛光刻蚀技术发展介绍2碱刻蚀技术搭配PERC电池3碱抛光刻蚀技术的成本优势4小结2湿法设备的发展轨迹未来累计向市场销售约60GW的湿法设备！更高效电池设备1.提供高端电池工艺设备（HITIBCTop-con等）；2.设备的选材，制造等环节全面2014-今升级；国产设备国际化1.国产设备品质、功能、稳定性、产能都大幅度1.普通电池环节品质可以和进提升；口设备相当；2.能够提供工艺支持，2.市场占有率超越进口设备，解决设备与工艺的融合

2、达到60%以上，成本下降问题；50%~60%；3.设备与工艺融合更深入，同1.开始国产化设备，但时实现高度自动化；功能、稳定性依然不2010-2013能与国外设备比较；1.全部为国外进口，价2.尚未掌握设备与工艺国产设备规模化格在千万左右；的匹配问题；2.机器调试依赖国外技术人员，收费昂贵；2006-2010国产化的开始2003-2005依赖进口设备湿法设备的发展轨迹l湿法设备（包含制绒、刻蚀等其他清洗设备）到目前为止市场占有率已经超过进口设备；捷佳创自2010年开始致力于碱刻蚀抛光技术设备的研究，替代传统的酸刻蚀设备201

3、2年第一代碱刻蚀抛光设备在客户端成功量产！第一代链试碱抛光设备第二代槽式碱抛光设备第三代高效槽式碱抛光设备•产能：400Pcs/批，6500Pcs/hour；•匹配PERC产线，满足背面平整度要•辅材升级，KOH体系抛光研制成功•兼容背面刻蚀抛光及单晶背面制绒工艺；求，电性能较酸刻蚀有明显优势,EL上线，背面平整度满足要求，解决N•支持多种添加剂及混合添加剂技术；问题突出；元素污染问题；•支持最薄120um硅片•搭配TMAH抛光剂，N污染严重；•使用槽式设备，整体COO下降；•洁净区域干燥，自洁净系统•设备整体COO偏高；•

4、设备稳定性大幅提升；•快速换液，在线换液•设备故障率偏高；•支持MES、RFID及选配在线称重功能；5碱抛光刻蚀设备可以用于多种工艺路径完全替代酸刻蚀工艺：普通工艺PERC工艺PERC双面PERC-SEPERC-SE•起到背面及边缘刻蚀作用;texturingtexturingtexturingtexturingtexturing•去除正表面PSG；DiffusionDiffusionDiffusionDiffusionDiffusion•提升背面抛光效果；Polishing(KOH)Polishing(KOH)RearLa

5、serSEPolishing(KOH)texturing(KOH)INKAnnealing,PIDAnnealing,PIDPolishing(KOH)PECVD同样兼容双面电池工艺：Rearetching,Annealing,PIDSE,PSGremovePrintingand•将背面抛光刻蚀剂更换为特殊制绒Al2O3PassivationAl2O3PassivationAnnealingAnnealing,PIDAl2O3Passivation剂，可以起到背面制绒的目的，大IVtestPECVDPECVDAl2O3Pas

6、sivation幅提高背面效率；PECVDlaserlaserPECVDPrintingandPrintingandlaserAnnealingAnnealingPrintingandlaserIVtestIVtestAnnealingPrintingandIVtestAnnealingIVtest碱抛光刻蚀减重及反射率表现抛光后3D显示呈金字塔塔基状，表面平坦；刻蚀后3D显示仍然为腐蚀酸坑状；l通过调整碱抛光的刻重，抛光度可调塔基大小，对应反射率30%-55%，最高减重在0.4g左右；酸抛光通过增加HF/HNO3耗量，也可

7、以将减重做到0.3g左右，但耗酸量极大；7碱抛光刻蚀电性能表现l通过PERC前后道工序工艺匹配，使用KOH体系碱抛光体系，PERC电池工艺可以达到21.7%以上，量跑效率增益较酸刻蚀，Eta提升+0.1%以上，实验室已经取得0.15%~0.2%的效率增益；8碱抛光效率分布状况l碱抛光在多种工艺上均有正面效果；l以PERC单晶为例，较酸抛光相比，电性能在高效率段有明显优势；碱抛光搭配PERC工艺EL表现传统链试刻蚀升级做PERC工艺碱抛光设备搭配PERC工艺l使用碱抛光EL效果图较好，无链试设备的各类滚轮印、皮带印、水痕、黑点

8、/斑等不良；将大幅提升PERC产品良品率；10碱抛光环保性l碱抛光废液酸碱为普通酸碱，可以自身中和，或用其他清洗工序的酸碱中和，不需要其他特别处理；l酸抛光废液，因含氮含氟较高，需要经过生化处理；l酸抛光生产过程中因硝酸耗量较高，会排放大量含氮废气，严重污染空气；11碱抛光的成本优势-单片