纯平全抛釉的研制

《纯平全抛釉的研制》由会员上传分享，免费在线阅读，更多相关内容在学术论文-天天文库。

CMYK工艺与设备纯平全抛釉的研制卢锦葵陈志川王瑞锋王彦君（东莞市唯美陶瓷工业园有限公司）【摘要】纯平全抛工艺随着全抛釉产品的热销越来越受到重视。本文研究了釉料配方、模具、抛光工艺等对釉面透明度和平整度的影响，结果表明通过调整配方和工艺条件，将淋釉量增至普通全抛釉的2～4倍结合合适的抛光工艺能够得到合适的纯平全抛釉面。【关键词】纯平全抛；透明度；平整度；淋釉量1前言等常用原料，为了提高釉的透明度也使用了一种熔块料，其组成见表1。将称好的原料按料:水=1:0.5球磨近年来，全抛釉和微晶石由于其光亮平整的抛光釉到一定细度后除铁备用。采用淋釉法每块800mm×面，装饰效果奢华时尚成为高尚生活的象征，一直是市800mm规格坯体淋釉1kg，干燥后在辊道窑中烧成，烧成场上的宠儿。但由于生产工艺技术上的局限，全抛釉产温度1220℃时间70min。品釉面平整度不够；微晶石虽然表面平整但售价过高而表1熔块料的组成显得曲高和寡，莫氏硬度、磨耗等物理性能较差又制约SiO2Al2O3Fe2O3CaOMgOZnONa2OK2OI.L合计[1-4]了其应用范围，导致市场销售不佳。58.539.600.1013.072.996.614.310.314.0399.55纯平全抛主要是在普通全抛釉的基础上大幅提升抛光釉面的平整度和光泽度的均匀性，同时价格上仅略2.2表征高于普通全抛釉，做到产品品质与价格上的完美结合。抛光面平整度评估是将砖平放在水平地面上，用肉本项目的基本研究思路是在普通全抛釉工艺的基础上，眼（平时带眼镜的可戴上眼镜）以标准距离1.5m的视距通过改变透明釉的配方和加工方法提高其透明度并保观测抛光面，光源在人的对面（光源是直管日光灯）与砖障关键物化性能，再将透明釉的淋釉量增至普通全抛釉表面上的入射角约为45°，与砖面距离1000±100mm，淋釉量的2～4倍，施釉后的坯体经干燥处理入窑烧成，避免灯光直接照射，使观测者能清楚看到抛光面反射的根据调整后的模块配比抛光，抛光后透明釉层达0.4～灯光倒影。0.6mm厚度的抛釉砖产品。纯平全抛项目所开发的产品评价的参数为反射清晰度和失真程度，观测抛光面不仅是简单的加厚釉层，还需保障各项理化指标达标，上的灯管图象是否清晰和失真是否严重。灯管图案清研发出既有一定釉层厚度，又能保证砖形、釉面透度、防晰，灯管非常直，图案几乎无失真的情况为A级，纯平全污、耐酸碱、耐磨度等理化项目达标的产品。抛需要达到此等级；灯管图案清晰，灯管有波浪变形，图案部分失真的情况为B级，市场上常规全抛釉为此等2实验部分级；灯管图案模糊，灯管变形较大，失真较明显的情况为2.1样品的制备C级，不做抛光处理的釉面砖多位此等级。参照上述评价标准，纯平全抛项目所生产产品必须达到A级，并作纯平全抛产品与普通全抛釉产品相比最大的特点为一个必要判断标准。在于产品的通透感和抛光后的平整度明显提升，接近微晶石的表面效果。要通过淋透明釉达到这种效果，就需3实验结果与讨论要大幅度增加透明釉的厚度，同时保证其透明度。此外在配套模具，抛光磨头和工艺上都需要有所改进，才能3.1原料对釉面性能的影响保证纯平全抛项目的顺利进行。纯平全抛的关键环节之一就是透明釉的调整。实验本实验选用长石、粘土、石英、氧化锌、碳酸钙、滑石初期采用增加全抛釉产品现有透明釉厚度的方法，烧成 CMYK工艺与设备后产品透明度明显降低，釉层内气泡明显增多，抛光后表4引入超细石英粉试验吸污严重，完全无法达到纯平全抛项目的要求。单纯通编高碳滑石钠熔超细评ZnO岭酸长石英过提高碱金属、碱土金属在配方中的比例来增加透感，号土钙石英石块粉判会造成透明釉在高温时分解气体增多从而使得透明釉1138820153530583针孔增加，同时会降低釉层的硬度和耐腐蚀能力。通过123882010353010871338820535301590引入熔块来调整配方体系，可以拓宽透明釉的烧成范1438820035302092围，减少釉料中可分解出气体的成分，增加配方的透明，有利于透明釉层的增厚。由表4可知，用超细石英粉替代原始石英后气泡数实验将ZnO含量固定为2，高岭土含量固定为8，碳量减少且体积减小，随着替代量的增加，改善效果不断酸钙含量固定为8，以滑石、石英、钠长石、熔块作4因明显，当超细石英粉全部替代原始的石英达到最佳效素3水平试验。将透明釉的透明度及气泡情况作为主要果，选择方案14#作为纯平透明釉的最终配方。判别依据，正交实验设计和结果见表2。正交实验表明釉的透明度与其是否存在晶体以及晶体的种类和钠长石属于主要因素，滑石和石英属于次要因素。用表大小有关，一般来讲釉中不存在晶体或晶体的折射率与[5,6]中最佳结果A1B3C3D3与正交实验得出的最优组合玻璃基体想当时釉的透明度最高。图1为14#釉面A2B2C3D3再作一组实验比较，结果见表3。的XRD图，从图中很明显看到该釉面不存在任何晶体，这也是保证14#配方高透明度的关键。表2透明釉正交试验因素滑石石英长石熔块评判水平1151525203021520302555315253530754201530306052020352070图114#釉面的XRD图62025252545725153525653.2坯体模具对釉面的影响82520253050通过多次实验发现，纯平全抛产品烧成后四边都有92525302055宽约1cm的条纹，会影响抛光后砖面的平整度。条痕产K153.351.741.751.7K258.358.356.755生原因是淋透明釉后，釉层在砖面有较长的未干时间，K356.758.37061.7在这段时间内透明釉具有流动性，会向四边流动并堆级差R56.628.310积，造成四边釉层厚度偏厚，烧成后产生边部条痕。这些主次顺序C>D>B>A条痕在抛光时会使抛光磨头和接近凸起条痕的砖面接优水平A2B2C3D3优组合A2B2C3D3触不充分，影响砖面抛光的平整度和光泽的均匀度。通过修改模具边部R角，烧成后凸起条痕变窄变低，不影表3透明釉正交试验回归试验响抛光工序，砖面平整度得到明显改善（如图2所示）。因素滑石石英钠长石熔块评判水平3（A1B3C3D3）152535307510（A2B2C3D3)2020353080通过上表得出A2B2C3D3为此组正交试验的最佳方案，此方案中透明釉的透明度比普通配方有明显改善，但是釉层内还有少量气泡，抛光后有一定的吸污现象。图2模具修改后（左）和前（右）的釉面效果超细加工的原料在国外已经成熟应用，对釉料的加工和3.3抛光工艺对釉面的影响烧成性能都有较明显的改善，在进一步试验中引入超细抛光磨头的选择和组合一直是抛光面产品的关键石英粉替代原始的石英，试验结果见表4： CMYK工艺与设备技术点之一，根据产品特性要求，纯平全抛系列产品的采用以上磨头组合抛光，切削量合适，抛光后的光抛光面需要采用特殊抛光处理才能实现。借鉴全抛釉的泽度和平整度都比较合适，边部平整，砖型变化较大时抛光参数，初步实验采用的磨头组合见表5：不会出现露底、白边现象。表5初步实验磨头组合4结论工序磨头目数磨头组数磨头材质粗抛100～1808～10通过调整配方引入合适的熔块料和超细石英从而中抛180～80020～26弹性磨头提高釉面的透明度，结合坯体模具和抛光工艺的改进成精抛1000～15006～10功制备出具有纯平效果的全抛釉面。与其他工艺相比，采用该方案抛光的切削量不够，釉面波纹感较强，该方法具有成本低、效果好、工艺简单等优点，具有良好釉面平整度不够。将粗抛段的磨头改为微晶石抛光所使的推广应用前景。●用的碳化硅磨头，中抛段和精抛段仍然使用弹性磨头，磨头组合调整见表6：【参考文献】表6调整后的磨头组合[1]梁铎,罗宏.全抛釉的生产工艺及性能研究[J].佛山陶瓷,工序磨头目数磨头组数磨头材质2013,(10):31-35.粗抛120～18010～16碳化硅磨头[2]况学成,殷敏,张明珠.高硬度全抛釉的研究[J].陶瓷学报,中抛180～80020～262015,(03):292-296.弹性磨头精抛1000～15006～10[3]陈建忠,卢广坚,陈华强,等.超耐磨高硬度全抛釉的制备研采用以上磨头方案抛光时，砖面中心位置平整度较究[J].中国陶瓷,2012,(09):39-42.[4]李祥勇.大规格瓷质全抛釉面砖试制及生产[J].中国陶瓷工好，但是边部平整度较差，容易出现漏抛的现象需要在业,2011,(04):35-39.抛光模块的品种做出改动，提高整理抛光平整度的效[5]裴新美,王瑞峰.陶瓷乳浊釉的研究进展[J].国外建材科技,果，最终确定的大批量抛光阶段磨头组合见表7：2007,(01):32-35.表7大批量抛光阶段所使用的磨头组合[6]SchabbachL.M.,BondioliF.,FerrariA.M.,etal.工序磨头目数磨头组数磨头材质Colorinceramicglazes:Analysisofpigmentandopaci-120～18012～16弹性磨头粗抛fiergrainsizedistributioneffectbyspectrophotome-120～1602～4金刚磨头ter[J].JEurCeramSoc,2008,28(9):1777-1781.中抛240～8018～22碳化硅磨头精抛1000～300018～22广东省硅酸盐学会官方微信号gdgsyxh