高三化学 第9讲有机合成张卉.doc

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1、有机合成知识梳理　教学重、难点作业完成情况典题探究例例例1光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如下（部分试剂和产物略去）：已知：Ⅰ.（R，R’为烃基或氢）Ⅱ.（R，R’为烃基）（1）A分子中含氧官能团名称为。11耐心细心责任心（2）羧酸X的电离方程式为。（3）C物质可发生的反应类型为（填字母序号）。a.加聚反应b.酯化反应c.还原反应d.缩聚反应（4）B与Ag(NH3)2OH反应的化学方程式为。（5）乙炔和羧酸X加成生成E，E的核磁共振氢谱为三组峰，且峰面积比为3:2:1，E能发生水解反应，则E的结构简式为。（6）与C具有相同官能团且含有苯环的同分异构体有4种，其结构

2、简式分别为、、和。（7）D和G反应生成光刻胶的化学方程式为。例2.下列有机物可能经过氧化、酯化、加聚三种反应制得高聚物的是()例3.写出以CH2ClCH2CH2CH2OH为原料制备的各步反应方程式(必要的无机试剂自选)。①________________________________________________________________________；②________________________________________________________________________；③_______________________________

3、_________________________________________；④________________________________________________________________________例4.有机物G（分子式为C10H16O）的合成设计路线如下图所示：①混合②H+，H2OMg，乙醚，回流C4H8Mg2Br2Br2CCl4C4H8Br2D(C4H8)①Mg，乙醚，回流②A③H+,H2OHBrC2H4C2H5BrBCu、O2△C(C3H6O)EOH-△GCu、O2△F11耐心细心责任心已知：iH+，H2ORMgXRXMg，乙醚，回流（

4、R表示烃基；X表示卤素原子）Br2CCl4iiiii稀NaOH△++H2O（R1、R2表示烃基）请回答下列问题：（1）35％～40％的A的水溶液可做防腐剂，A的结构式为。（2）C中官能团的名称为。（3）C2H4生成C2H5Br的反应类型为。（4）D的结构简式为。（5）E为键线式结构，其分子式为。（6）G中含有1个五元环，F生成G的反应方程式为。（7）某物质X：a．分子式只比G少2个氢，其余均与G相同b．与FeCl3发生显色反应c．分子中含有4种环境不同的氢符合上述条件的同分异构体有种。写出其中环上只有两个取代基的异构体与A在酸性条件下生成高分子化合物的方程式。演练方阵A档（

5、巩固专练）1．下列变化属于加成反应的是（）A．乙烯通过酸性KMnO4溶液B．乙醇和浓硫酸共热C．乙炔使溴水褪色D．苯酚与浓溴水混合2.某有机物的水溶液，它的氧化产物甲和还原产物乙都能与金属钠反应放出H2。甲和乙反应可生成丙。甲、丙都能发生银镜反应。这种有机物是（）A、甲醛B、乙醛C、酮D、甲醇3．有机化合物分子中能引进卤原子的反应是（）A．消去反应B．酯化反应C．水解反应D．取代反应4．下面四种变化中，有一种变化与其他三种变化类型不同的是（）浓H2SO4　　A．CH3CH2OH+CH3COOH　　　　　　CH3COOCH2CH3+H2OB．CH3CH2OHCH2=CH2↑+

6、H2OC．2CH3CH2OHCH3CH2OCH2CH3+H2OD.CH3CH2OH+HBrCH3CH2Br+H2O11耐心细心责任心5．卡托普利为血管紧张素抑制剂，其合成线路几各步反应的转化率如下：则该合成路线的总产率是（）A．58.5%B．93.0%C．76%D．68.4%6.由2—溴丙烷为原料制取1，2—丙二醇，需要经过的反应为（）A.加成—消去—取代B.消去—加成—取代C.消去—取代—加成D.取代—消去—加成H2SO4（浓）加热Br27.化合物丙由如下反应得到C4H10OC4H8C4H8Br2或Al2O3,加热溶剂CCl4甲乙丙丙的结构简式不可能的是（）A.CH3CH

7、2CHBrCH2BrB.CH3CH(CH2Br)2C.CH3CHBrCHBrCH3D.(CH3)2CHCH2Br8.某卤代烷烃C5H11Cl发生消去反应时，可以得到两种烯烃，则该卤代烷烃的结构简式可能为（）A.CH3CH2CH2CH2CH2ClB.CH3CH2—CH—CH2CH3w.w.w.k.s.5.u.c.o.mClClC.CH3—CHCH2CH2CH3D.CH3CH2C—CHClCH39.从溴乙烷制取1，2—二溴乙烷，下列转化方案中最好的是（）NaOH溶液浓H2SO4Br2A.CH3CH2BrCH3CH2OH