脱硫脱碳装置主要设备及参数分解教程文件.ppt

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1、脱硫脱碳装置主要设备及参数分解第一章重点设备操作胺法脱硫装置的核心设备为吸收塔、再生塔及重沸器，它们分别承担吸收酸气和从溶液中赶出酸气的职责。为了达到所要求的工艺条件，有溶液循环泵及溶液冷却器、酸气冷凝器等。为了节能，配置了贫富液换热器。为了保持溶液及系统的清洁程度，设有原料气分离器和溶液过滤器。为了回收溶液吸收和夹带的烃类及降低酸气烃含量，设有富液闪蒸塔。为防止溶液进入输气管线，设有净化气分离器。在MEA等系统中，为了除去变质产物还设有复活釜。一、胺法脱硫装置的主要设备第一章重点设备操作1、原料气重力分离器重力分离器是利用液滴（或固体微粒

2、）与气体密度之差，把液滴（或固体微粒）从气体中分离出来的设备，常见的有卧式和立式。具体见书67页。分离液滴的粒径范围100-200μm，加上丝网除沫器，可除去小至10μm的液滴。（１）分离器的原理（2）控制参数液位监测：日常生产中，要严密监视该分离器液位变化情况，防止油水带入装置，污染溶液。通常原料气分离器内液位为0，有液应做好排污准备。排液注意事项见书68页。第一章重点设备操作2、原料气过滤分离器过滤分离的原理是利用气体与微粒大小不同，气体可通过过滤介质，而微粒直径相对于气体直径很大，微粒被截留在过滤介质上，从而被分离出来。过滤分离器分两

3、部分一部分含有过滤及聚结作用的元件，主要截留固体微粒，同时将液体微粒聚结成较大的液滴，另一部分即在气流作用下，较大的液滴被带入中心区并被除去。（１）原理（2）控制参数差压控制：为保证过滤过程的连续性，原料气过滤分离器两台切换使用。当一台的过滤器差压达到规定值时（70kPa）时，需切换至另一台，同时对该过滤元件进行检查、清洗或更换。液位控制：日常生产中，要严密监视该过滤分离器液位变化情况，防止油水带入装置，污染溶液。通常原料气分离器内液位为0，有液应做好排污准备第一章重点设备操作3、吸收塔吸收塔系以胺液脱除天然气中H2S、CO2及有机硫化合物

4、而达到所要求的净化指标的设备。由于反应的可逆性，采用气液逆流接触的传质设备。逆流的气液传质设备有填料塔及板式塔两类。填料塔属于微分接触逆流操作，其中填料为气液接触的基本构件。板式塔属于逐级接触操作，塔板为气液接触的基本构件。在有降液管的塔板上气相与液相的流向相互垂直，属错流型。无降液管的穿流塔板则属逆流型。（１）吸收塔的结构第一章重点设备操作序号板式塔填料塔1￠800mm以下时安装较为困难￠800mm以下造价一般比板式塔便宜，直径大则价昂。2效率稳定，大塔塔板效率比小塔有所提高用小填料时小塔效率高，塔的高度低，但直径增大，效率下降，所需

5、填料高度急增3空塔速度高空塔速度（生产能力）低4检修清理较填料塔容易大塔检修清理费用大、劳动量5压降比填料塔大压降小，对阻力要求小的场合较适用6气液比的适应范围较大对液相喷淋量有一定要求7多数不便于用非金属材料制作内部结构简单，便于用非金属材料制作，可用于腐蚀较严重场合8持液量大持液量小板式塔与填料塔对比胺法工艺需考虑溶液的发泡问题。板式塔中气流从溶液中鼓泡通过，较易导致发泡。但由于有适当的板间距，泡沫不易连接。填料塔内溶液在填料表面构成连续相，一旦发泡则较难控制。第一章重点设备操作大型胺法脱硫装置均使用有降液管的板式塔，板上的液层高度可

6、由溢流堰高控制，早期使用泡罩塔板，后为浮阀塔板取代，小塔亦可使用筛板。浮阀塔处理能力大（较泡罩塔高20%～40%），操作弹性大（即在较宽的气速范围内板效率变化较小），板效率高（高15%左右），压降低，结构简单而易安装，其制造费用约为泡罩塔的60%～80%。浮阀有多种，常用F1型（国外称V-1型）浮阀，其中轻F1浮阀（Q）用1.5mm厚的薄板冲压而成，重约5g，重阀（Z）用2mm薄板，重约33g。第一章重点设备操作（2）吸收塔的操作1、循环量控制：在实际操作中，应根据原料气的处理量、气质条件和产品气净化度来调整溶液的循环量。通过调整吸收塔溶液

7、进塔管线上的调节阀及其开度可控制循环量及进塔层数。2、液位控制：吸收塔液位一般控制在50%，由调节阀控制。3、塔的差压控制：塔底与塔顶差压的大小表示吸收塔运行状况好坏，正常值应小于20KPa。4、处理气量的调节：通过吸收塔进塔原料气管线上的调节阀控制吸收塔处理气量。5、原料气温度：原料气温度设计3-18℃，一般要求不超过35℃.6、贫液进塔温度：一般不超过40℃，略高于气体入塔温度（防止重烃冷凝）。7、系统压力控制：系统压力调节时应缓慢，防止胺液被湿净化气带走。第一章重点设备操作4、再生塔再生塔用于使酸气从富液中解吸，富液向塔下部流动。为了

8、增强溶液再生效果和提供热量，通常设有重沸器使胺液产生蒸汽，蒸汽在再生塔内加热溶液并与解吸的酸气一起向上流动，塔顶则有回流流下以降低酸气分压和维持系统溶液组成稳定。大型胺法装置的再